深圳市神州天柱科技有限公司2025-04-05

等離子清洗的機理主要是活性粒子的物理作用和化學作用，那么在清洗不同的材料時，選擇正確的介質氣體，可收到事半功倍的效果。材料，可以大致分為金屬和非金屬兩種，其中金屬清洗的目的是主要是去除表面氧化物和有機物，非金屬清洗主要是去除表面有機污染物，根據反應機體有兩種分類，一種是反應性氣體（化學作用），主要是氫氣、氧氣、四氟化碳等；另一類是非反應性氣體（物理作用），主要有氬氣、氦氣、氮氣。 當所清洗的材料放入反應室內，通過氣體放電產生的等離子體中的活性粒子與材料表面就會發生反應。 反應性氣體以化學反應為主，電離后自由基與表面污染物發生化學反應，生產易揮發物質被排走，達到清洗的目的，氫氣主要利用其還原作用，與被清洗件表面污染物發生反應，典型的如金屬表面的氧化物清洗，氫氣作為放電氣體參與反應則發生還原反應，材料表面的氧化物與放電產生的氫離子反應生成水。而氧氣主要利用其氧化作用，典型的如去除零件表面的有機物等。氧氣作為氣體參與反應發生氧化反應，材料表面的有機物被氧氣電離產生的氧離子氧化生成二氧化碳和水。 非反應性氣體電離后主要靠離子的物理轟擊作用，去除污染物，有些氣體在清洗的同時還可以使材

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