南京拓展科技有限公司2025-04-05

可以采用高精密的環(huán)境控制設備來對環(huán)境進行控制，達到精密溫控的效果。如蝕刻、涂層、光刻等工藝，這些工藝都需要在特定的溫度范圍內(nèi)進行。潔凈室內(nèi)的溫度波動可能會導致晶圓材料的物理性質(zhì)發(fā)生變化，影響生產(chǎn)精度。例如，光刻工藝中，微小的溫度波動會導致曝光位置的漂移，進而影響線路的精確度。此外，晶圓在高溫環(huán)境下可能會因為熱膨脹而發(fā)生變形，影響成品率。因此，半導體潔凈室中通常溫度需要嚴格控制在20°C至25°C范圍內(nèi)，且溫度波動不能超過±1°C（部分要求較高的工藝如光刻工藝，溫度波動不能超過±0.1°C）。所以我們可以采用極測（南京）高精密環(huán)境控制設備，該設備內(nèi)部通過風機引導氣流以一定的方向循環(huán)，控制系統(tǒng)對循環(huán)氣流的每個環(huán)節(jié)進行處理，從而使柜內(nèi)的溫濕度達到超高的控制精度，可達到±0.002攝氏度。

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