UV真空鍍膜技術除化學氣相沉積法外,其他幾種方法均具有以下特點:(1)各種鍍膜技術都需一個特定的真空環境,以保證制膜材料在加熱蒸發或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動,不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并消除大氣中雜質的不良影響。(2)各種鍍膜技術都需有一個蒸發源或靶子,以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進,擴大了制膜材料的選用范圍,無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質,都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜,還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發或濺射出來的制膜材料,在與待鍍的工件生成薄膜的過程中,對其膜厚可進行比較精確的測量和控制,從而保證膜厚的均勻性。(4)每種薄膜都可以通過微調閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質量分數,從而防止蒸鍍材料的氧化,把氧的質量分數降低到小的程度,還可以充入惰性氣體等,這對于濕式鍍膜而言是無法實現的。(5)由于鍍膜設備的不斷改進,鍍膜過程可以實現連續化,從而提高產品的產量,而且在生產過程中對環境無污染。(6)由于在真空條件下制膜,所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需再加工,這就使得薄膜的力學性能和化學性能比電鍍膜和化學膜好。真空鍍膜的物理過程和工藝流程。珠海真空鍍膜發展
除化學氣相沉積法外,其他幾種方法均具有以下的共同特點:(1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環境,以保證制膜材料在加熱蒸發或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動,不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并消除大氣中雜質的不良影響。(2)各種鍍膜技術都需要有一個蒸發源或靶子,以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進,擴大了制膜材料的選用范圍,無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質,都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜,而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發或濺射出來的制膜材料,在與待鍍的工件生成薄膜的過程中,對其膜厚可進行比較精確的測量和控制,從而保證膜厚的均勻性。(4)每種薄膜都可以通過微調閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質量分數,防止蒸鍍材料的氧化,把氧的質量分數降低到小的程度,還可以充入惰性氣體等,這對于濕式鍍膜而言是無法實現的。(5)由于鍍膜設備的不斷改進,鍍膜過程可以實現連續化,從而地提高產品的產量,而且在生產過程中對環境無污染。(6)在真空條件下制膜,所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需要再加工,這就使得薄膜的力學性能和化學性能比電鍍膜和化學膜好。江門真空鍍膜發展真空鍍膜技術初現于20世紀30年代,四五十年代開始出現工業應用。
真空鍍膜設備主要指需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括多弧離子真空鍍膜設備,真空離子蒸發,光學鍍膜機,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮,如果真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體自然散射,結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。
在真空中制備膜層,包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜技術初現于20世紀30年代,四五十年代開始出現工業應用,工業化大規模生產開始于20世紀80年代,在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得的應用。真空鍍膜是指在真空環境下,將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料),屬于物liqi相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜,故也稱真空金屬化。真空鍍膜的成本大約是多少?
目前除了PET等少數幾種塑料材料不需要表面涂裝外,大多數塑料尤其是塊狀工程塑料在真空鍍膜之前均需進行底涂預處理。底涂預處理是真空鍍膜前處理的一種,可有效提高鍍層的附著力、平整度等性能,如等離子處理改善了鍍層與基材的附著力。底涂處于基材和真空鍍層之間,其作用主要有:(1)通過底涂封閉基材,防止真空鍍膜時基材中的揮發性雜質逸出,影響鍍膜質量;(2)塑料表面較粗糙,底涂預處理后,可通過涂層獲得光滑平整的鏡面效果;(3)在薄膜材料上預涂底漆可進一步加強薄膜的阻隔性;(4)預涂底漆有利于獲得更厚的真空鍍層,展現出更高的反射效果和力學性能;(5)某些表面極性較低的基材如PP等與鍍層的附著力較差,通過底漆可獲得較好的鍍層附著性;(6)對某些耐熱性較差的塑料基材,底涂可以起到一定的熱緩沖作用,保護基材免遭熱致形變。真空鍍膜面漆掉落怎么解決?珠海真空鍍膜發展
UV平板真空鍍膜工藝流程。珠海真空鍍膜發展
UV真空鍍膜系列產品是我公司將光固化涂料應用于真空鍍膜技術中的成功實踐,適用于ABS、AS、PS、PC、PET、PA、PP、BMC等塑料表面的真空鍍膜工藝,經過噴涂方法涂裝,UV快速固化,操作簡單、施工方便。具有對基材及鍍膜層附著好、干燥快、耐化學性能好等特性。底面涂配套成型后,表面硬度高、耐磨性能佳、平整光滑、金屬質感好,普遍應用于化妝品、手機、數碼相機、電腦、電視機、汽車零配件及光電產業等外殼、按鍵及其它電子裝飾件表面的真空鍍膜工藝。UV真空鍍膜產品的優異性低溫紫外光固化,對基材損傷小固化速度快,適合流水線生產、鍍膜美觀、綜合性能優異減少環境及空氣污染,節約能源不含有毒重金屬物質,符合歐盟ROHS標準。珠海真空鍍膜發展
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