真空鍍膜技術是指在真空環境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬），屬于物理qi相沉積工藝，因為鍍層常為鋁、錫、銦等金屬的薄膜，故也稱為真空金屬化。真空鍍膜的功能主要是賦予被鍍件表面具有高度的金屬光澤和鏡面效果，尤其在車燈罩方面有很重要的聚光效果，其次是賦予鍍膜層出色的阻隔性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。真空鍍膜根據鍍膜氣相金屬產生的方式和沉積方式的不同，分為熱蒸發鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝。其中，磁控濺射法由于鍍膜層和基材的結合力強，鍍膜層致密、均勻等優點，更具有技術優勢。潤溢分享：真空鍍膜操作規程。湖北電子真空鍍膜

UV真空鍍膜產品的特性。UV真空鍍膜產品的優異性低溫紫外光固化，對基材損傷小固化速度快，適合流水線生產、鍍膜美觀、綜合性能優異減少環境及空氣污染，節約能源不含有毒重金屬物質，符合歐盟ROHS標準。UV真空鍍膜系列產品是我公司將光固化涂料應用于真空鍍膜技術中的成功實踐，適用于ABS、AS、PS、PC、PET、PA、PP、BMC等塑料表面的真空鍍膜工藝，經過噴涂方法涂裝，UV快速固化，操作簡單、施工方便。具有對基材及鍍膜層附著好、干燥快、耐化學性能好等特性。底面涂配套成型后，表面硬度高、耐磨性能佳、平整光滑、金屬質感好，普遍應用于化妝品、手機、數碼相機、電腦、電視機、汽車零配件及光電產業等外殼、按鍵及其它電子裝飾件表面的真空鍍膜工藝。廣東真空鍍膜流程真空鍍膜是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、射頻和磁控等新技術。

真空鍍膜與蒸發鍍膜機、濺射鍍膜機相比，明顯的特點是荷能離子一邊轟擊基體與膜層，一邊進行沉積。荷能離子的轟擊作用所產生一系列的效應，主要有如下幾點：①膜/基結合力（附著力）強，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產生的濺射作用，使基體受到清洗，jihuo及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強擴散效應。既提高了基體表面層組織結晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產生一定的離子注入和離子束混合效應。②離子鍍膜機由于產生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞。因此，可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較，具有下列優點：(1)薄膜和基體選材，薄膜厚度可進行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結合強度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產生廢液，也無環境污染。從事真空鍍膜,難免會遇到鍍膜產品膜層脫落的情況。

20世紀70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應，這種鍍膜方法不只薄膜的結合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會產生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發展起來的一種新型鍍膜技術，通常稱為干式鍍膜技術。真空鍍膜機參數怎么調？廣州塑料真空鍍膜方法

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UV真空鍍膜的操作規程：1．在真空鍍膜機運轉正常情況下，開動真空鍍膜機時，必須先開水管，工作中應隨時注意水壓。2．在離子轟擊和蒸發時，應特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。3．在用電子qiang鍍膜時，應在鐘罩外面周圍上鋁板。觀察窗的玻璃比較好用鉛玻璃，觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。4．鍍制多層介質膜的鍍膜間，應安裝通風吸塵裝置，及時排除有害粉塵。5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。6．酸洗夾具應在通風裝置內進行，并要戴橡皮手套。7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時，應輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應加蓋。8．工作完畢應斷電、斷水。湖北電子真空鍍膜

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