真空鍍膜的方法很多，主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合，兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優缺點。PVD鍍膜主要分為真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜。廣東省真空鍍膜公司

真空鍍膜工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。真空蒸鍍，簡稱蒸鍍，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。離子鍍是真空鍍膜工藝的一項新發展。普通真空鍍膜（亦稱真空蒸鍍）時，工件夾固在真空罩內，當高溫蒸發源通電加熱后，促使待鍍材料——蒸發料熔化蒸發。為什么需要進行真空鍍膜呢？這項工藝已經成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術，主要是為了使產品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優于產品本身的性能，從而提高產品的質量，延長加工產品的使用壽命，不只如此，還可以節約能源，獲得更為明顯的技術經濟效益。實際應用中，我們往往會根據產品的性質來決定選用哪種真空鍍膜工藝。中山市汽車真空鍍膜廠家白電油浸泡清洗是目前ABS塑料UV真空電鍍領域常見的方法。

真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支，它已普遍地應用于光學、電子學、能源開發，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質表面的物理、化學性能的話，這一技術又是真空表面處理技術中的重要組成部分。在光學方面，一塊光學玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質的薄膜后，即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任何預期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長的吸收，而對另一種波長的透射的濾色的片。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜，都很需要。

真空鍍膜時，蒸發料粒子大約只以一個電子伏特的能量向工件表面蒸鍍，在工件表面與鍍層之間，形成的界面擴散深度通常只為幾百個埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說比一根頭發絲的百分之一還要小。兩者間可以說幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，蒸發料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能。如果說普通真空鍍膜的粒子相當于一個氣喘吁吁的長跑運動員，那么離子鍍的粒子則好似乘坐了高速火箭的乘客，當其高速轟擊工件時，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。納米鍍膜和真空鍍膜的區別。

真空鍍膜與蒸發鍍膜機、濺射鍍膜機相比，比較大的特點是荷能離子一邊轟擊基體與膜層，一邊進行沉積。荷能離子的轟擊作用所產生一系列的效應，主要有如下幾點：①膜/基結合力（附著力）強，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產生的濺射作用，使基體受到清洗，jihuo及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強擴散效應。既提高了基體表面層組織結晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產生一定的離子注入和離子束混合效應。②離子鍍膜機由于產生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞。因此，可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。而且，被電離的膜材離子，還會在電廠的作用下沉積在具有負電壓基體表面的任意位置上。因此，這一點蒸發鍍是無法達到的。真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面。深圳金屬表面真空鍍膜技術

我國真空鍍膜技術的趨勢。廣東省真空鍍膜公司

UV鍍膜生產工藝流程及參數：一：檢查線體，確認各系統（除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化）運轉正常；二：清洗基材表面，去除油污（用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面，并立即干燥）；三：基材靜電除塵；四：噴涂底漆，膜厚：10～30微米，可根據具體基材和要求調整；五：在30℃～70℃的紅外環境下的流平5～15分鐘；六：UV固化，曝光能量：600～1200mJ/cm2；七：下線，稍冷卻，真空鍍膜（銦、銦-錫、鋁等）；八：鍍膜完畢靜置冷卻（一般≥5分鐘，不超過4小時），再上中漆線體，或直接上面漆線體；九：噴涂中漆，膜厚：4～12微米，可根據需要添加色漿；十：在30℃～70℃的紅外環境下的流平5～15分鐘；十一：UV固化，曝光能量：300～800mJ/cm2；十二：噴涂面漆，膜厚：10～30微米，可根據需要添加色漿或啞漿；十三：在30℃～70℃的紅外環境下的流平5～15分鐘；十四：UV固化，曝光能量：800～1500mJ/cm2（顏色越深，所需能量越高）；十五：下線檢測。廣東省真空鍍膜公司

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