為什么真空鍍膜可以做成半透效果而且不導電？并非完全不導電，利用了分子在薄膜狀態下的不連續性，金屬或金屬化合物都具有導電性，只是導電率不同。但是，當金屬或金屬化合物呈一種薄膜的狀態時，其相應的物理特性會有所不同。常規的鍍膜材料中，如：銀是銀白效果和導電性能比較好的金屬，但它厚度在5納米以下時，它是不導電的；鋁的銀白效果和導電性比銀稍微差一些，但它厚度在0.9納米時，就已經具備導電性。為什么會這樣呢？那是因為銀分子的連續性沒有鋁的好，所以在相對膜厚下，它的導電性反而較差。我們真空鍍金屬不導電膜其實就是利用了某些金屬的分子連續性差的原理，把它厚度控制在某個范圍，使其具備銀白色外觀并且電阻超大。由此可見，金屬不導電膜的效果跟它的膜厚是直接相關的。只有在相對應的膜厚下，才能得到相應穩定的銀白色不導電膜。真空鍍膜加工產品時為什么會發生掉膜的現象？中山塑料真空鍍膜工藝流程

雖然塑料可以在很多場合代替金屬， 但顯而易見缺乏金屬的質感， 為此，需要采用一定的方法，在塑料表面鍍上一層金屬（鋁，鋅，銅，銀，金，鉻等），一種方法是采用類似化學鍍和電鍍的方法，另一種方法是在塑料表面進行真空噴鍍金屬 -----即在真空狀態下，將金屬融化后，以分子或原子形態沉積在塑料表面形成 5-10um 的金屬膜。真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間良好的配合， 底漆的厚度通常為 10-20um。主要作用是防止塑料中水、 有機溶劑、 增塑劑等排出影響金屬附著。要涂層硬度高、 底漆具有可以修復塑料缺陷，提供一個光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能， 并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組份常溫固化的聚氨酯和環氧涂料， 低溫烘烤的氨基涂料以及熱塑性丙烯酸酯涂料。金屬鍍膜在空氣中容易氧化變暗， 同時還存在細微的針型孔等缺陷， 所以要再涂上一層 5-10um 的保護面漆。對面漆的要求是：透明、優良的耐水性、耐磨性、耐候性、不操作金屬鍍膜， 對金屬鍍膜附著牢固，通常可采用丙烯酸酯清漆、 聚酯清漆、 聚氨酯清漆等。湖北大型雕塑真空鍍膜公司真空鍍膜設備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。

UV光固化真空鍍膜涂料介紹.UV光固化涂料工業產品表面涂裝工藝一直期望開發低污染、高速高效的成膜方法，紫外光固化技術革新在涂料中的成功應用，誕生了紫外光固化涂料產品，它具有許多傳統涂料無法比擬的優點：成膜速度極快，能量利用率高；施工綜合成本低；涂膜質量優異；污染小，符合生態環保要求；適用熱敏基材（如塑料、木材等），應用范圍廣，是新一代綠色環保涂料產品。UV真空鍍膜工藝技術真空鍍膜是指在真空環境下，將某種金屬或金屬化合物以氣體的形式沉積到基材（通常是非金屬材料）表面，因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化，又稱真空鍍膜（主要是取代污染嚴重的傳統水電鍍工藝）。

真空鍍膜過程。簡單來說就是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。但在實際輝光放電直流濺射系統中，自持放電很難在低于1.3Pa的條件下維持，這是因為在這種條件下沒有足夠的離化碰撞。因此在低于1.3～2.7Pa壓強下運行的濺射系統提高離化碰撞就顯得尤為重要。提高離化碰撞的方法要么靠額外的電子源來提供，而不是靠陰極發射出來的二次電子;要么就是利用高頻放電裝置或者施加磁場的方式提高已有電子的離化效率。事實上，真空鍍膜中二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區域內，該區域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑很長，在運動過程中不斷的與氬原子發生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠離靶材，終沉積在基片上。全自動真空鍍膜的工藝流程。

真空鍍膜技術的特點：1、鍍覆材料廣：可作為真空鍍蒸發材料有幾十種，包括金屬、合金和非金屬。真空鍍膜加工還可以像多層電鍍一樣，加工出多層結構的復合膜，滿足對涂層各種不同性能的需求。2、真空鍍膜技術可以實現不能通過電沉積方法形成鍍層的涂覆：如鋁、鈦、鋯等鍍層，甚至陶瓷和金剛石涂層，這是十分難能可貴的。3、真空鍍膜性能優良：真空鍍膜厚度遠小于電鍍層，但涂層的耐摩擦和耐腐蝕性能良好，孔隙率低，而且無氫脆現象，相對電鍍加工而言可以節約大量金屬材料。4、環境效益優異：真空鍍膜加工設備簡單、占地面積小、生產環境優雅潔凈，無污水排放，不會對環境和操作者造成危害。在注重環境保護和大力推行清潔生產的形勢下，真空鍍膜技術在許多方面可以取代電鍍加工。從事真空鍍膜,難免會遇到鍍膜產品膜層脫落的情況。中山市燈飾真空鍍膜流程

真空鍍膜的物理過程和工藝流程。中山塑料真空鍍膜工藝流程

真空濺射鍍膜的定義：給靶材施加高電壓（形成等離子狀態），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在樣品表面形成金屬皮膜的方法。磁控濺射鍍膜的定義：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片，氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。輝光放電的定義：輝光放電是指在稀薄氣體中，兩個電極之間加上電壓時產生的一種氣體放電現象。真空濺射鍍膜的特點：對于任何待鍍材料,只有能做成靶材,就能實現濺射濺射所獲得的薄膜與基片結合良好濺射所獲得的薄膜純度高,致密性好濺射工藝可重復性好,膜厚可控制,同時可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜。中山塑料真空鍍膜工藝流程

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