因為在真空蒸鍍完之后還要噴一層UV光油面漆，這層面漆上可以做不同的顏色。蒸鍍通過鍍一些硅化物可以做成七彩色，但比較薄，近看可以，遠看不明顯，；濺射通過CSi、CO、Si等物質進行反應鍍可鍍出七彩色，或者通過低溫多層不同顏色的鍍膜來呈現多彩。而水電鍍的一般為金屬本色，要呈現其他顏色的需要涂UV面漆然后UV照射。為什么真空鍍膜的鍍鋁不導電？因為鍍膜總共有三層，外層的UV光油經UV照射后起到固化耐磨絕緣的作用，但是一旦這層膜被破壞就導電了。真空鍍膜掉膜是什么原因？中山市金屬表面真空鍍膜技術

真空鍍膜工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。真空蒸鍍，簡稱蒸鍍，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。離子鍍是真空鍍膜工藝的一項新發展。普通真空鍍膜（亦稱真空蒸鍍）時，工件夾固在真空罩內，當高溫蒸發源通電加熱后，促使待鍍材料——蒸發料熔化蒸發。為什么需要進行真空鍍膜呢？這項工藝已經成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術，主要是為了使產品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優于產品本身的性能，從而提高產品的質量，延長加工產品的使用壽命，不只如此，還可以節約能源，獲得更為明顯的技術經濟效益。實際應用中，我們往往會根據產品的性質來決定選用哪種真空鍍膜工藝。浙江UV真空鍍膜材料UV真空鍍膜涂料是在UV塑料涂料基礎上發展起來的一種新型紫外光固化涂料。

UV鍍膜生產工藝流程及參數：一：檢查線體，確認各系統（除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化）運轉正常；二：清洗基材表面，去除油污（用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面，并立即干燥）；三：基材靜電除塵；四：噴涂底漆，膜厚：10～30微米，可根據具體基材和要求調整；五：在30℃～70℃的紅外環境下的流平5～15分鐘；六：UV固化，曝光能量：600～1200mJ/cm2；七：下線，稍冷卻，真空鍍膜（銦、銦-錫、鋁等）；八：鍍膜完畢靜置冷卻（一般≥5分鐘，不超過4小時），再上中漆線體，或直接上面漆線體；九：噴涂中漆，膜厚：4～12微米，可根據需要添加色漿；十：在30℃～70℃的紅外環境下的流平5～15分鐘；十一：UV固化，曝光能量：300～800mJ/cm2；十二：噴涂面漆，膜厚：10～30微米，可根據需要添加色漿或啞漿；十三：在30℃～70℃的紅外環境下的流平5～15分鐘；十四：UV固化，曝光能量：800～1500mJ/cm2（顏色越深，所需能量越高）；十五：下線檢測。

真空鍍膜的優缺點：真空鍍膜的優點。表面有較好的金屬質感且細膩。顏色較水電鍍可解決七彩色的問題如魔幻藍、閃銀燈；水電鍍顏色較單調，一般只有亮銀、亞銀等少數幾種。基材材質選用范圍廣，如PC、ABS、PMMA，（水鍍只能選擇ABS、ABS+PC）。通過鍍銦錫可做成半透的效果，燈光可以從產品中發出來。不污染環境。2.真空鍍膜的優點。蒸鍍靶材受熔點限制，太高熔點的不易采用。真空蒸鍍不過UV油，其附著力較差，要保證真空蒸鍍的附著力，均需后續進行特殊的噴涂處理。UV真空鍍膜和噴渡有什么區別?

真空鍍膜與蒸發鍍膜機、濺射鍍膜機相比，比較大的特點是荷能離子一邊轟擊基體與膜層，一邊進行沉積。荷能離子的轟擊作用所產生一系列的效應，主要有如下幾點：①膜/基結合力（附著力）強，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產生的濺射作用，使基體受到清洗，jihuo及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強擴散效應。既提高了基體表面層組織結晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產生一定的離子注入和離子束混合效應。②離子鍍膜機由于產生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞。因此，可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。而且，被電離的膜材離子，還會在電廠的作用下沉積在具有負電壓基體表面的任意位置上。因此，這一點蒸發鍍是無法達到的。UV電鍍噴涂與塑料真空鍍膜的區別。順德uv真空鍍膜廠

PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟及原理！中山市金屬表面真空鍍膜技術

表面處理應用于各個領域，例如人類生產用的工業用品、生活用的日常用品、消費品、工藝品等。不同產品有不同需求，對應的表面處理方式也不同。工業用品，多以改變表面性能為目的。主要為增強表面剛度、硬度、強度、耐磨性、耐腐蝕性、耐高溫等性能需求。工業消費品，改性滿足功能要求的同時也注重裝飾性。例如汽車外表面的表面處理，采用靜電噴涂的方式，既有保護車體的功能需求也有美觀的裝飾屬性。日常用品，重視裝飾，滿足客戶體驗感，同時也需要滿足防腐蝕、耐磨、防酸堿度等性能要求。中山市金屬表面真空鍍膜技術

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