UV真空鍍膜涂料是在UV塑料涂料基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新型紫外光固化涂料。隨著塑料裝飾技術(shù)發(fā)展，一種塑料制品金屬化裝飾技術(shù)隨之產(chǎn)生，它是利用塑料基材涂裝底漆后，經(jīng)真空鍍膜或濺涂，涂裝一層金屬薄膜層，再涂覆面漆而成。經(jīng)過涂裝的塑料表面，完全閃爍著金屬光澤，顯出高貴和富麗堂皇的金屬品質(zhì)，根本看不出是塑料制品。塑料的金屬化裝飾不只可以節(jié)約大量寶貴的金屬材料，也很大減輕了制品質(zhì)量，近年來在化妝品包裝瓶和包裝盒、汽車車燈、酒瓶包裝瓶蓋、手機塑料按鍵、鐘表外殼等制造中獲得了普遍的認(rèn)可和應(yīng)用。常用的幾種塑料真空鍍膜材料。中山pvd真空鍍膜產(chǎn)品

真空鍍膜工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。真空蒸鍍，簡稱蒸鍍，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。離子鍍是真空鍍膜工藝的一項新發(fā)展。普通真空鍍膜（亦稱真空蒸鍍）時，工件夾固在真空罩內(nèi)，當(dāng)高溫蒸發(fā)源通電加熱后，促使待鍍材料——蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。為什么需要進(jìn)行真空鍍膜呢？這項工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術(shù)，主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能，從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量，延長加工產(chǎn)品的使用壽命，不只如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為明顯的技術(shù)經(jīng)濟效益。實際應(yīng)用中，我們往往會根據(jù)產(chǎn)品的性質(zhì)來決定選用哪種真空鍍膜工藝。中山pvd真空鍍膜產(chǎn)品在ABS真空電鍍中,底漆或面漆經(jīng)常會選擇UV漆,因為UV在ABS底材的附著力大多比較好。

真空鍍膜的方法很多，主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結(jié)合，兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點。

真空電鍍主要部件有哪些功能？現(xiàn)在真空電鍍設(shè)備是做的越來越好，從一開始功能較單一的真空電鍍到如今的多功能結(jié)合的真空電鍍，其中經(jīng)歷了較長時間。真空電鍍設(shè)備的真空室能用不銹鋼或者碳鋼組合使用制作，真空電鍍設(shè)備做成單開門或者又開門。真空電鍍設(shè)備能通過利用電阻加熱，若電阻要加熱，真空電鍍設(shè)備所使用的材料包括石墨、鎢、鉭、鉬、鎳鉻等，真空電鍍設(shè)備加熱后要進(jìn)行保溫，真空電鍍設(shè)備設(shè)置了保溫層就可以提高加熱的效率，以免真空電鍍設(shè)備的熱量快速散失，一般有金屬保溫層和復(fù)合保溫層兩種形式。真空電鍍設(shè)備為更好的進(jìn)行測試、測定室內(nèi)溫度，真空電鍍設(shè)備使用測溫儀器和控溫儀器，避免溫度過高或不達(dá)標(biāo)真空電鍍設(shè)備，抽氣系統(tǒng)由各種真空泵及附件按其各自功能組裝使用。UV真空鍍膜項目利潤怎么樣？

塑料真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類，即物理汽相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)。UV真空鍍膜和噴渡有什么區(qū)別?杭州工藝品真空鍍膜

關(guān)于塑膠真空電鍍的一些知識。中山pvd真空鍍膜產(chǎn)品

真空鍍膜主要有兩個大種類：蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。一、對于蒸發(fā)鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于：1。基片材料與靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3.蒸發(fā)功率，速率4.真空度5.鍍膜時間，厚度大小。組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。中山pvd真空鍍膜產(chǎn)品

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