真空不導電電鍍，稱NCVM，是一種真空電鍍的高新技術。也是目前塑膠件外殼普遍采用的物理法表面處理工藝之一。采用新的鍍膜技術、新的材料，做出普通真空電鍍的不同顏色的金屬外觀效果，起到美化工件表面之功用。真空鍍膜和陽極氧化是目前兩種常用的表面處理方法。真空鍍膜法在手機消費電子的表面處理中，物理的氣相沉積（PVD）是主要的真空鍍膜方法。其原理為：在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層，其沉積粒子束來源于非化學因素，如蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍等。紫外光(UV)固化真空鍍膜底漆。北京玻璃真空鍍膜廠

UV真空鍍膜系列產品是我公司將光固化涂料應用于真空鍍膜技術中的成功實踐，適用于ABS、AS、PS、PC、PET、PA、PP、BMC等塑料表面的真空鍍膜工藝，經過噴涂方法涂裝，UV快速固化，操作簡單、施工方便。具有對基材及鍍膜層附著好、干燥快、耐化學性能好等特性。底面涂配套成型后，表面硬度高、耐磨性能佳、平整光滑、金屬質感好，普遍應用于化妝品、手機、數碼相機、電腦、電視機、汽車零配件及光電產業等外殼、按鍵及其它電子裝飾件表面的真空鍍膜工藝。UV真空鍍膜產品的優異性低溫紫外光固化，對基材損傷小固化速度快，適合流水線生產、鍍膜美觀、綜合性能優異減少環境及空氣污染，節約能源不含有毒重金屬物質，符合歐盟ROHS標準。廣州塑膠真空鍍膜加工真空鍍膜技術從四十年代開始，發展很快。

在某些材料的表面上只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學性能。20世紀70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應，這種鍍膜方法不僅薄膜的結合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會產生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發展起來的一種新型鍍膜技術，通常稱為干式鍍膜技術。

真空鍍膜有幾種方式？潤溢真空鍍膜給大家解答。1：真空蒸發鍍膜在真空室中加熱蒸發容器中的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到待鍍產品表面，凝結形成固態薄膜的方法。2：離子鍍膜蒸發源的加熱和蒸發鍍膜相同。由于系統為等離子狀態，使金屬離子在產品表面吸附成膜，金屬離子具有高能量，鍍膜時離子結晶性佳、膜層的密著性高等3：磁控濺射鍍膜給靶材施加高電壓（形成等離子狀態），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在產品表面形成金屬膜層的方法。 常見的塑料件產品電鍍工藝有兩種:水電鍍和真空離子鍍。

真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：真空蒸鍍其原理是在真空條件下，用蒸發器加熱帶蒸發物質，使其氣化或升華，蒸發離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態薄膜的技術。濺射鍍膜濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。離子鍍膜真空離子鍍膜，它是在上面兩種真空鍍膜技術基礎上發展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發物質（膜材）部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發物或其反應物沉積在基片表面。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。真空卷繞鍍膜真空卷繞鍍膜是一種利用物相沉積的方法在柔性基體上連續鍍膜的技術，以實現柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。真空鍍膜主要分蒸發鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍膜和化學氣相沉積幾種。四川燈飾真空鍍膜系統

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