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中山市pvd真空鍍膜機

來源: 發布時間:2021-10-30

真空鍍膜技術主要有真空蒸發鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學氣相沉積等多種方法。除化學氣相沉積法外,其他幾種方法均具有以下的共同特點:(1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環境,以保證制膜材料在加熱蒸發或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動,不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并消除大氣中雜質的不良影響。(2)各種鍍膜技術都需要有一個蒸發源或靶子,以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進,擴大了制膜材料的選用范圍,無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質,都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜,而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發或濺射出來的制膜材料,在與待鍍的工件生成薄膜的過程中,對其膜厚可進行比較精確的測量和控制,從而保證膜厚的均勻性。真空鍍膜技術初現于20世紀30年代,四五十年代開始出現工業應用。中山市pvd真空鍍膜機

面漆真空鍍層通常較薄(不超過0.2μm),耐磨性等力學性能較差。面漆不僅起到保護鍍層的作用,還可賦予真空鍍膜制品良好的硬度、耐磨性等力學性能。面漆的主要性能要求包括:(1)對鍍層有較高的附著力,這是涂層起保護作用的基礎;(2)應具有足夠的耐磨性,以保護極薄的真空鍍層免受機械擦傷;(3)具有較高的阻隔性,即本身要具有較好的耐水、耐腐蝕性及耐候性,阻止氧氣等對鍍膜有腐蝕性的物質直接接觸真空鍍層,保護鍍層免受腐蝕;(4)面漆組成本身不能含有可能腐蝕鍍層的組分或雜質;(5)對于需要突出光亮度的真空鍍膜場合,面漆也應保證有較高的透明性和表面光澤。某些真空鍍膜工藝無需面漆,如鍍膜材料為鉻、不銹鋼時,其鍍層耐腐蝕性好、硬度高且耐劃傷性強,因此對制品性能要求不高時,可不必涂裝面漆。東莞燈飾真空鍍膜工藝真空鍍膜技術從四十年代開始,發展很快。

與濕式鍍膜技術相比較,真空鍍膜技術具有下列優點:(1)薄膜和基體選材廣,薄膜厚度可進行控制,以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜,環境清潔,薄膜不易受到污染,因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結合強度好,薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產生廢液,也無環境污染。真空鍍膜技術主要有真空蒸發鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學氣相沉積等多種方法。真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較,具有上述一些優點。

由于電鍍企業經歷近幾年行業低迷,經濟蕭條的影響后,使得很多企業背負沉重的訂單壓力,成本壓力,資金壓力等等;由于電鍍企業下游客戶單位效益不景氣,直接影響到電鍍企業之前業務效益;處于非常被動的狀態;一邊是生產需要大量的人力,物力,財力;一邊是貨款收不回來,導致一些生產企業被迫停產,消耗庫存;縱觀電鍍行業市場前景由于處于整個行業的比較低端,多年來積累了一定的問題,解決并有效的處理好自己的問題才是企業的生存之根本,很多企業想開工但是不知道未來的路有多么難走,有些企業在考慮轉型但是又不知道轉型后能否成功,更甚至有大部分企業直接就停產不做了,保持觀望的態度;開工經營難,不開工等待難,這就是目前電鍍行業處于的一種現狀。真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。

真空鍍膜是真空應用領域的一個突破性技術,利用物理或者化學方法并吸收一系列新技術而成的工藝,目的就是為了在實際生產中為產品創造薄膜保護層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。為什么需要進行真空鍍膜呢?這項工藝已經成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術,主要是為了使產品表面具有耐磨損耐高溫,耐腐蝕等優于產品本身的性能,從而提高產品的質量,延長加工產品的使用壽命,不只如此,還可以節約能源,獲得更為明顯的技術經濟效益。實際應用中,我們往往會根據產品的性質來決定選用哪種真空鍍膜工藝。什么是UV噴涂真空鍍膜工藝流程?深圳塑料真空鍍膜設備

真空鍍膜加工產品時為什么會發生掉膜的現象?中山市pvd真空鍍膜機

潤溢UV鍍膜生產工藝的流程及參數:一:檢查線體,確認各系統(除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化)運轉正常;二:清洗基材表面,去除油污(用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面,并立即干燥);三:基材靜電除塵;四:噴涂底漆,膜厚:10~30微米,可根據具體基材和要求調整;五:在30℃~70℃的紅外環境下的流平5~15分鐘;六:UV固化,曝光能量:600~1200mJ/cm2;七:下線,稍冷卻,真空鍍膜(銦、銦-錫、鋁等);八:鍍膜完畢靜置冷卻(一般≥5分鐘,不超過4小時),再上中漆線體,或直接上面漆線體;九:噴涂中漆,膜厚:4~12微米,可根據需要添加色漿;十:在30℃~70℃的紅外環境下的流平5~15分鐘;十一:UV固化,曝光能量:300~800mJ/cm2;十二:噴涂面漆,膜厚:10~30微米,可根據需要添加色漿或啞漿;十三:在30℃~70℃的紅外環境下的流平5~15分鐘;十四:UV固化,曝光能量:800~1500mJ/cm2(顏色越深,所需能量越高);十五:下線檢測。中山市pvd真空鍍膜機

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