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廣東金屬表面真空鍍膜操作

來源: 發布時間:2021-11-03

真空鍍膜工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。真空蒸鍍,簡稱蒸鍍,是指在真空條件下,采用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料(或稱膜料)并使之氣化,粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。離子鍍是真空鍍膜工藝的一項新發展。普通真空鍍膜(亦稱真空蒸鍍)時,工件夾固在真空罩內,當高溫蒸發源通電加熱后,促使待鍍材料——蒸發料熔化蒸發。為什么需要進行真空鍍膜呢?這項工藝已經成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術,主要是為了使產品表面具有耐磨損耐高溫,耐腐蝕等優于產品本身的性能,從而提高產品的質量,延長加工產品的使用壽命,不只如此,還可以節約能源,獲得更為明顯的技術經濟效益。實際應用中,我們往往會根據產品的性質來決定選用哪種真空鍍膜工藝。目前,國內從事真空鍍膜涂料制造的企業有上百家。廣東金屬表面真空鍍膜操作

真空不導電電鍍,稱NCVM,是一種真空電鍍的高新技術。也是目前塑膠件外殼普遍采用的物理法表面處理工藝之一。采用新的鍍膜技術、新的材料,做出普通真空電鍍的不同顏色的金屬外觀效果,起到美化工件表面之功用。真空鍍膜和陽極氧化是目前兩種常用的表面處理方法。真空鍍膜法在手機消費電子的表面處理中,物理的氣相沉積(PVD)是主要的真空鍍膜方法。其原理為:在真空條件下,將金屬氣化成原子或分子,或者使其離子化成離子,直接沉積到工件表面,形成涂層,其沉積粒子束來源于非化學因素,如蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍等。北京工藝品真空鍍膜工藝真空電鍍適用范圍較廣,如ABS料、ABS+PC料、PC料的產品。

一般來說塑料表面本身具有0.51nn左右的粗糙度,真空鍍膜的厚度不超過0.2μm,無法填平基材表面的凹凸不平,得不到理想的鏡面效果,UV涂層厚度達到10-20μm,表面平整度在0.1μm以下,可填平基材缺陷并得到理想的鍍膜效果。三,獲得更厚的真空電鍍層.用底漆過渡,有利于獲得更厚獲得更厚的鍍層,使產品得到更高的反射效果和力學性能。四,附著性.對于一些極性較差的塑膠,通過底漆過渡,可以獲得較強的鍍層附著性。五,耐熱性.塑膠熱變形溫度一般較低,通過底漆過渡,可以起到一定的熱緩沖作用,保護塑膠免遭熱變形。

pvd真空電鍍具備沉積速度更快和表層清理的特性,尤其具備膜層粘合力強、繞性好、可鍍原材料普遍等優勢。選用全世界優良的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝技術,及在這個基礎以上與國際性quán wēi**的加工工藝自主創新。憑著在裝飾設計鍍領域十多年的珍貴工作經驗,為顧客出示合適的鍍層生產加工計劃方案。pvd真空電鍍抗氧化性,耐腐蝕,抗腐蝕,有機化學特性平穩,抑酸。手機殼PVD鍍膜抵抗能力,鍍膜機殼非常容易消除漆料和指紋識別。在明顯的太陽,咸的濕地公園和大城市自然環境下,也不無光澤,不空氣氧化,不退色,不掉下來。高寬比抗磨損,耐刮擦,不容易刮傷。可鍍原材料普遍,與基材結合性強。真空鍍膜技術從四十年代開始,發展很快。

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PVD鍍膜主要分為真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜。廣東金屬表面真空鍍膜操作

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱為真空鍍膜。真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較,具有下列優點:(1)薄膜和基體選材,薄膜厚度可進行控制,以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜,環境清潔,薄膜不易受到污染,因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結合強度好,薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產生廢液,也無環境污染。廣東金屬表面真空鍍膜操作

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