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江門cvd真空鍍膜應用

來源: 發布時間:2021-11-07

潤溢UV鍍膜生產工藝的流程及參數:一:檢查線體,確認各系統(除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化)運轉正常;二:清洗基材表面,去除油污(用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面,并立即干燥);三:基材靜電除塵;四:噴涂底漆,膜厚:10~30微米,可根據具體基材和要求調整;五:在30℃~70℃的紅外環境下的流平5~15分鐘;六:UV固化,曝光能量:600~1200mJ/cm2;七:下線,稍冷卻,真空鍍膜(銦、銦-錫、鋁等);八:鍍膜完畢靜置冷卻(一般≥5分鐘,不超過4小時),再上中漆線體,或直接上面漆線體;九:噴涂中漆,膜厚:4~12微米,可根據需要添加色漿;十:在30℃~70℃的紅外環境下的流平5~15分鐘;十一:UV固化,曝光能量:300~800mJ/cm2;十二:噴涂面漆,膜厚:10~30微米,可根據需要添加色漿或啞漿;十三:在30℃~70℃的紅外環境下的流平5~15分鐘;十四:UV固化,曝光能量:800~1500mJ/cm2(顏色越深,所需能量越高);十五:下線檢測。真空鍍膜中五顏六色是怎么形成的?江門cvd真空鍍膜應用

真空鍍膜就是將塑膠,薄膜等制品置于高真空爐內。對鋁,錫,銦等金屬加熱,使之蒸發形成金屬氣體,金屬氣體在高真空條件下自由散發,冷卻后附著于被蒸鍍物表面上,形成金屬薄膜。 真空鍍膜為什么要噴底漆和面漆?真空鍍膜前噴底漆能增加金屬層和塑材之間的附著度,使塑材表面平坦光滑。電鍍后光澤度好。-真空鍍膜后噴面漆起保護鍍層,防止氧化,污染。增強表面耐磨。耐刮性能。通過增加染料等物質達到表面美觀多樣化的目的。-真空不導電電鍍和普通真空電鍍有何區別?真空不導電電鍍,又稱NCVM。普通真空電鍍習慣稱PVD。真空不導電電鍍的加工工藝緣于普通真空電鍍,卻比其制程復雜的多,主要區別是其電鍍區域不導電,從而不影響手機等通訊公具的收訊效果(如無雜音,對人產生影響等。)現在3G產業中,廣為流傳推廣的表面處理就是NCVM。-東莞硅膠真空鍍膜操作中國塑料件真空鍍膜市場研究及發展趨勢預測。

真空鍍膜加工清理鍍膜室內的灰塵,設置清潔度高的工 作間,保持室內高度清潔是鍍膜工藝對環境的基本要求。空氣濕度大的地區,除鍍前要對基片、真空室內各部 件認真清洗外,還要進行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內,注意油擴散泵返油,對加熱功率高的擴散泵必須 采取擋油措施。對經過清洗處理的清潔表面,不能在大氣環境中存放,要用封閉容器或保潔柜貯存,以減小灰塵的沾污。用剛 氧化的鋁容器貯存玻璃襯底,可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至很小。因為這些容器優先吸附碳氫化合物。真空鍍膜加工對于 高度不穩定的、對水蒸氣敏感的表面,一般應貯存在真空干燥箱中。

真空鍍膜主要有兩個大種類:蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等。一、對于蒸發鍍膜:一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。厚度均勻性主要取決于:1。基片材料與靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3.蒸發功率,速率4.真空度5.鍍膜時間,厚度大小。組分均勻性:蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發鍍膜的組分均勻性不好。真空鍍膜的原理及應用。

辨別一家好的真空鍍膜加工廠,可以大概從如下五個方面加以衡量。1.車間環境是否具有三級凈化供風系統,是否真的無塵車間,人員進出及貨物進出是否嚴格管制走風淋門,風淋門是否能正常工作、車間地板、墻壁、天花、貨架上是否潔凈無灰塵,現場5S是否整潔;2.人員穿著所有人員進出車間是否穿著防靜電無塵衣帽、靜電無塵鞋;3.生產設備設備狀況是否正常、點檢保養維護是否有按時進行,設備是否夠用、設備剩余產能是否滿足未來的合作需求;4.質量控制是否配備專門管控質量的品質部門,是否有專業的QC人員管控生產線品質,產品是否經過全檢才出貨給客戶;5.環保消防安監合規是否具備單位審批的環評資料、環保許可證書、車間現場消防及安全生產管理是否符合要求。真空鍍膜知識知多少—顏色。山東玩具真空鍍膜工藝流程

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真空鍍膜時,蒸發料粒子大約只以一個電子伏特的能量向工件表面蒸鍍,在工件表面與鍍層之間,形成的界面擴散深度通常只為幾百個埃(10000埃=1微米=0.0001厘米)。也就是說比一根頭發絲的百分之一還要小。兩者間可以說幾乎沒有連接的過渡層,好似截然分開。而離子鍍時,蒸發料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能。如果說普通真空鍍膜的粒子相當于一個氣喘吁吁的長跑運動員,那么離子鍍的粒子則好似乘坐了高速火箭的乘客,當其高速轟擊工件時,不但沉積速度快,而且能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴散層,離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米,也就是說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特別牢。江門cvd真空鍍膜應用

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