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山東玻璃真空鍍膜產品

來源: 發布時間:2021-11-18

UV真空鍍膜系列產品是我公司將光固化涂料應用于真空鍍膜技術中的成功實踐,適用于ABS、AS、PS、PC、PET、PA、PP、BMC等塑料表面的真空鍍膜工藝,經過噴涂方法涂裝,UV快速固化,操作簡單、施工方便。具有對基材及鍍膜層附著好、干燥快、耐化學性能好等特性。底面涂配套成型后,表面硬度高、耐磨性能佳、平整光滑、金屬質感好,普遍應用于化妝品、手機、數碼相機、電腦、電視機、汽車零配件及光電產業等外殼、按鍵及其它電子裝飾件表面的真空鍍膜工藝。UV真空鍍膜產品的優異性低溫紫外光固化,對基材損傷小固化速度快,適合流水線生產、鍍膜美觀、綜合性能優異減少環境及空氣污染,節約能源不含有毒重金屬物質,符合歐盟ROHS標準。真空鍍膜,以其高硬度、低磨損率、低磨擦系數、強抗腐蝕性、抗黏著性等優越的使用性能應用于模具工業中。山東玻璃真空鍍膜產品

為什么真空鍍膜可以做成不同的顏色,還有七彩色?下面潤溢真空鍍膜為大家揭曉。因為在真空蒸鍍完之后還要噴一層UV光油面漆,這層面漆上可以做不同的顏色。蒸鍍通過鍍一些硅化物可以做成七彩色,但比較薄,近看可以,遠看不明顯,;濺射通過CSi、CO、Si等物質進行反應鍍可鍍出七彩色,或者通過低溫多層不同顏色的鍍膜來呈現多彩。而水電鍍的一般為金屬本色,要呈現其他顏色的需要涂UV面漆然后UV照射。為什么真空鍍膜的鍍鋁不導電?因為鍍膜總共有三層,外層的UV光油經UV照射后起到固化耐磨絕緣的作用,但是一旦這層膜被破壞就導電了。廣東電子真空鍍膜系統真空鍍膜怎么控制顏色?

真空鍍膜機詳細鍍膜方法如下:1、檢查真空鍍膜設備各操作控制開關是否在"關"位置。2、打開總電源開關,真空鍍膜設備送電。3、低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位,保證無任何雜質污物。5、落下鐘罩。6、啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵。7、開復合真空計電源。1)左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段的加熱位置。2)低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至110mA時,左旋鈕"1"旋轉至指向2區段測量位置。8、當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時,低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。9、真空鍍膜設備開通冷卻水,啟動擴散泵,加熱40min。10、低壓閥拉出。重復一次⑦動作程序:左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至6.7Pa時,開高壓閥。等低真空表“2”內指針右移動至0.1Pa時,開規管燈絲開關。1)發射、零點測量鈕“9”旋轉至指向發射位置。2)左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。

真空鍍膜與蒸發鍍膜機、濺射鍍膜機相比,明顯的特點是荷能離子一邊轟擊基體與膜層,一邊進行沉積。荷能離子的轟擊作用所產生一系列的效應,主要有如下幾點:①膜/基結合力(附著力)強,膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產生的濺射作用,使基體受到清洗,jihuo及加熱,既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層,也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強擴散效應。既提高了基體表面層組織結晶性能,也提供了合金相形成的條件。而且,較高能量的離子轟擊,還可以產生一定的離子注入和離子束混合效應。②離子鍍膜機由于產生良好的繞射性。在壓力較高的情況下(≧1Pa)被電離的蒸汽的離子或分子在到達基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞。因此,可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。我國真空鍍膜技術的趨勢。

真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間良好的配合, 底漆的厚度通常為 10-20um。主要作用是防止塑料中水、 有機溶劑、 增塑劑等排出影響金屬附著。要涂層硬度高、 底漆具有可以修復塑料缺陷,提供一個光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能, 并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組份常溫固化的聚氨酯和環氧涂料, 低溫烘烤的氨基涂料以及熱塑性丙烯酸酯涂料。金屬鍍膜在空氣中容易氧化變暗, 同時還存在細微的針型孔等缺陷, 所以要再涂上一層 5-10um 的保護面漆。對面漆的要求是:透明、優良的耐水性、耐磨性、耐候性、不操作金屬鍍膜, 對金屬鍍膜附著牢固,通常可采用丙烯酸酯清漆、 聚酯清漆、 聚氨酯清漆等。真空鍍膜的成本大約是多少?廣東電子真空鍍膜系統

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發并凝結于鍍件表面而形成薄膜的一種方法。山東玻璃真空鍍膜產品

塑料UV真空鍍膜是指在真空環境下,將某種金屬或金屬化合物以氣體的形式沉積到基材(通常是非金屬材料)表面,因為鍍層常為金屬薄膜,故也稱真空金屬化,又稱真空鍍膜(主要是取代污染嚴重的傳統水電鍍工藝)。真空鍍膜的主要功能是賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能,提供優異的電磁屏蔽和導電性能及完美的表面裝飾效果。目前,真空鍍膜的方法有熱蒸發鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝,金屬源有鋁、錫、銦、鈷、鎳、銅、鋅、銀、金、鈦、鉻、鉬、鎢等。山東玻璃真空鍍膜產品

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