真空鍍膜與蒸發鍍膜機、濺射鍍膜機相比，主要有如下幾點：①膜/基結合力（附著力）強，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產生的濺射作用，使基體受到清洗，jihuo及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強擴散效應。既提高了基體表面層組織結晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產生一定的離子注入和離子束混合效應。②離子鍍膜機由于產生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞。因此，可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。而且，被電離的膜材離子，還會在電廠的作用下沉積在具有負電壓基體表面的任意位置上。因此，這一點蒸發鍍是無法達到的。真空鍍膜基本問題解決方法。浙江UV真空鍍膜設備

真空鍍膜就是將塑膠，薄膜等制品置于高真空爐內。對鋁，錫，銦等金屬加熱，使之蒸發形成金屬氣體，金屬氣體在高真空條件下自由散發，冷卻后附著于被蒸鍍物表面上，形成金屬薄膜。 真空鍍膜為什么要噴底漆和面漆?真空鍍膜前噴底漆能增加金屬層和塑材之間的附著度，使塑材表面平坦光滑。電鍍后光澤度好。-真空鍍膜后噴面漆起保護鍍層，防止氧化，污染。增強表面耐磨。耐刮性能。通過增加染料等物質達到表面美觀多樣化的目的。-真空不導電電鍍和普通真空電鍍有何區別?真空不導電電鍍，又稱NCVM。普通真空電鍍習慣稱PVD。真空不導電電鍍的加工工藝緣于普通真空電鍍，卻比其制程復雜的多，主要區別是其電鍍區域不導電，從而不影響手機等通訊公具的收訊效果(如無雜音，對人產生影響等。)現在3G產業中，廣為流傳推廣的表面處理就是NCVM。-中山電子真空鍍膜應用潤溢分享:真空鍍膜概述。

UV電鍍噴涂與塑料真空鍍膜的區別主要概括如下：一，UV電鍍噴涂工藝簡單、綠色環保、用途普遍、是一種原料可回收利用的表面處理技術。各項指標都按照電鍍行業的標準做了相應的檢測，各種檢測報告完全符合國內外電鍍行業的要求。噴金鍍鉻機技術噴涂的制品，具有優異的附著力、抗沖擊力、耐氣候性、耐磨性和耐擦傷性，符合國內外大型汽車生產商和大型電器生產商等精密產品的要求，亦可作為其它行業的表面裝飾和保護等噴涂。該技術填補了目前國內市場環保電鍍的空白二，塑料真空鍍膜塑料具有質輕、性能優良，易成型，易加工等特點，應用范圍非常廣，是日常生活和國民經濟各部門不可缺少的材料。

真空鍍膜設備主要指需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括多弧離子真空鍍膜設備，真空離子蒸發，光學鍍膜機，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮，如果真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體自然散射，結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。進口和國產真空鍍膜技術的本質有何區別？

真空鍍膜的方法主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合，兼有兩者的工藝特點。為什么UV真空鍍膜噴涂生產線會引起火災？深圳真空鍍膜應用

白電油浸泡清洗是目前ABS塑料UV真空電鍍領域常見的方法。浙江UV真空鍍膜設備

真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間良好的配合， 底漆的厚度通常為 10-20um。主要作用是防止塑料中水、 有機溶劑、 增塑劑等排出影響金屬附著。要涂層硬度高、 底漆具有可以修復塑料缺陷，提供一個光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能， 并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組份常溫固化的聚氨酯和環氧涂料， 低溫烘烤的氨基涂料以及熱塑性丙烯酸酯涂料。金屬鍍膜在空氣中容易氧化變暗， 同時還存在細微的針型孔等缺陷， 所以要再涂上一層 5-10um 的保護面漆。對面漆的要求是：透明、優良的耐水性、耐磨性、耐候性、不操作金屬鍍膜， 對金屬鍍膜附著牢固，通常可采用丙烯酸酯清漆、 聚酯清漆、 聚氨酯清漆等。浙江UV真空鍍膜設備

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