UV鍍膜生產工藝流程及參數：一：檢查線體，確認各系統（除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化）運轉正常；二：清洗基材表面，去除油污（用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面，并立即干燥）；三：基材靜電除塵；四：噴涂底漆，膜厚：10～30微米，可根據具體基材和要求調整；五：在30℃～70℃的紅外環境下的流平5～15分鐘；六：UV固化，曝光能量：600～1200mJ/cm2；七：下線，稍冷卻，真空鍍膜（銦、銦-錫、鋁等）；八：鍍膜完畢靜置冷卻（一般≥5分鐘，不超過4小時），再上中漆線體，或直接上面漆線體；九：噴涂中漆，膜厚：4～12微米，可根據需要添加色漿；十：在30℃～70℃的紅外環境下的流平5～15分鐘；十一：UV固化，曝光能量：300～800mJ/cm2；十二：噴涂面漆，膜厚：10～30微米，可根據需要添加色漿或啞漿；十三：在30℃～70℃的紅外環境下的流平5～15分鐘；十四：UV固化，曝光能量：800～1500mJ/cm2（顏色越深，所需能量越高）；十五：下線檢測。為什么UV真空鍍膜噴涂生產線會引起火災？順德燈飾真空鍍膜系統

真空鍍膜加工清理鍍膜室內的灰塵，設置清潔度高的工 作間，保持室內高度清潔是鍍膜工藝對環境的基本要求。空氣濕度大的地區，除鍍前要對基片、真空室內各部 件認真清洗外，還要進行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內，注意油擴散泵返油，對加熱功率高的擴散泵必須 采取擋油措施。對經過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛 氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至很小。因為這些容器優先吸附碳氫化合物。真空鍍膜加工對于 高度不穩定的、對水蒸氣敏感的表面，一般應貯存在真空干燥箱中。順德燈飾真空鍍膜系統真空鍍膜附著力差的原因。

真空鍍膜法在手機消費電子的表面處理中，物li氣相沉積（PVD）是主要的真空鍍膜方法。其原理為：在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層，其沉積粒子束來源于非化學因素，如蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍等。真空不導電電鍍，稱NCVM，是一種真空電鍍的高新技術。也是目前塑膠件外殼普遍采用的物理法表面處理工藝之一。采用新的鍍膜技術、新的材料，做出普通真空電鍍的不同顏色的金屬外觀效果，起到美化工件表面之功用。

一般來說，塑料表面本身具有0.51nn左右的粗糙度，真空鍍膜的厚度不超過0.2μm，無法填平基材表面的凹凸不平，得不到理想的鏡面效果，UV涂層厚度達到10-20μm，表面平整度在0.1μm以下，可填平基材缺陷并得到理想的鍍膜效果。獲得更厚的真空電鍍層用底漆過渡,有利于獲得更厚獲得更厚的鍍層,使產品得到更高的反射效果和力學性能。真空鍍膜的附著性.對于一些極性較差的塑膠,通過底漆過渡,可以獲得較強的鍍層附著性。真空鍍膜的耐熱性.塑膠熱變形溫度一般較低,通過底漆過渡,可以起到一定的熱緩沖作用,保護塑膠免遭熱變形。PVD真空鍍膜的工藝流程。

真空鍍膜技術具有以下特點：(1)各種鍍膜技術都需一個特定的真空環境，以保證制膜材料在加熱蒸發或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質的不良影響。(2)各種鍍膜技術都需有一個蒸發源或靶子，以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進，擴大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜，還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較精確的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。(4)每種薄膜都可以通過微調閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質量分數，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質量分數降低到小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無法實現的。(5)由于鍍膜設備的不斷改進，鍍膜過程可以實現連續化，從而提高產品的產量，而且在生產過程中對環境無污染。(6)由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需再加工，這就使得薄膜的力學性能和化學性能比電鍍膜和化學膜好。真空鍍膜的UV代表什么材料？浙江玻璃真空鍍膜工藝流程

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面。順德燈飾真空鍍膜系統

真空鍍膜有幾種方式？潤溢真空鍍膜給大家解答。1：真空蒸發鍍膜在真空室中加熱蒸發容器中的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到待鍍產品表面，凝結形成固態薄膜的方法。2：離子鍍膜蒸發源的加熱和蒸發鍍膜相同。由于系統為等離子狀態，使金屬離子在產品表面吸附成膜，金屬離子具有高能量，鍍膜時離子結晶性佳、膜層的密著性高等3：磁控濺射鍍膜給靶材施加高電壓（形成等離子狀態），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在產品表面形成金屬膜層的方法。 順德燈飾真空鍍膜系統

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