真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)：(1)薄膜和基體選材，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無環(huán)境污染。UV真空鍍膜和噴渡有什么區(qū)別?山東UV真空鍍膜廠家

真空鍍膜法是在真空的條件下，將金屬和非金屬材料加熱，當(dāng)溫度超過其沸點(diǎn)時(shí)，被加熱物以氣態(tài)急劇蒸發(fā)，以直線向四周噴射；當(dāng)遇到障礙物時(shí)即附著積淀于物體表面，形成一層薄膜。由于手印與周圍物體表面的物理屬性不同，附著積淀的物質(zhì)程度不同，薄膜的薄厚不同，導(dǎo)致色調(diào)差別從而顯出手印。真空鍍膜法適用于金屬制品、皮革、玻璃、瓷器、本色木、人民幣等物面上油脂、汗液或汗垢混合的無色手印。真空鍍膜法的具體操作方法，應(yīng)按照真空鍍膜儀的使用說明書來進(jìn)行。真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。山西塑膠真空鍍膜廠家塑料在真空鍍膜前為何要涂層?

面漆真空鍍層通常較薄(不超過0.2μm)，耐磨性等力學(xué)性能較差。面漆不僅起到保護(hù)鍍層的作用，還可賦予真空鍍膜制品良好的硬度、耐磨性等力學(xué)性能。面漆的主要性能要求包括：（1）對(duì)鍍層有較高的附著力，這是涂層起保護(hù)作用的基礎(chǔ);（2）應(yīng)具有足夠的耐磨性，以保護(hù)極薄的真空鍍層免受機(jī)械擦傷;（3）具有較高的阻隔性，即本身要具有較好的耐水、耐腐蝕性及耐候性，阻止氧氣等對(duì)鍍膜有腐蝕性的物質(zhì)直接接觸真空鍍層，保護(hù)鍍層免受腐蝕;（4）面漆組成本身不能含有可能腐蝕鍍層的組分或雜質(zhì);（5）對(duì)于需要突出光亮度的真空鍍膜場(chǎng)合，面漆也應(yīng)保證有較高的透明性和表面光澤。某些真空鍍膜工藝無需面漆，如鍍膜材料為鉻、不銹鋼時(shí)，其鍍層耐腐蝕性好、硬度高且耐劃傷性強(qiáng)，因此對(duì)制品性能要求不高時(shí)，可不必涂裝面漆。

真空鍍膜的方法很多，主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點(diǎn)。白電油浸泡清洗是目前ABS塑料UV真空電鍍領(lǐng)域常見的方法。

真空鍍膜工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。真空蒸鍍，簡(jiǎn)稱蒸鍍，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。離子鍍是真空鍍膜工藝的一項(xiàng)新發(fā)展。普通真空鍍膜（亦稱真空蒸鍍）時(shí)，工件夾固在真空罩內(nèi)，當(dāng)高溫蒸發(fā)源通電加熱后，促使待鍍材料——蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。為什么需要進(jìn)行真空鍍膜呢？這項(xiàng)工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù)，主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能，從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量，延長(zhǎng)加工產(chǎn)品的使用壽命，不只如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為明顯的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。實(shí)際應(yīng)用中，我們往往會(huì)根據(jù)產(chǎn)品的性質(zhì)來決定選用哪種真空鍍膜工藝。PVD真空鍍膜知識(shí)簡(jiǎn)介！湖北燈飾真空鍍膜機(jī)

什么是UV噴涂真空鍍膜工藝流程？山東UV真空鍍膜廠家

真空鍍膜技術(shù)是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬），屬于物理qi相沉積工藝，因?yàn)殄儗映殇X、錫、銦等金屬的薄膜，故也稱為真空金屬化。真空鍍膜的功能主要是賦予被鍍件表面具有高度的金屬光澤和鏡面效果，尤其在車燈罩方面有很重要的聚光效果，其次是賦予鍍膜層出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。真空鍍膜根據(jù)鍍膜氣相金屬產(chǎn)生的方式和沉積方式的不同，分為熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝。其中，磁控濺射法由于鍍膜層和基材的結(jié)合力強(qiáng)，鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點(diǎn)，更具有技術(shù)優(yōu)勢(shì)。山東UV真空鍍膜廠家

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