真空鍍膜設備主要指需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括多弧離子真空鍍膜設備，真空離子蒸發，光學鍍膜機，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮，如果真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體自然散射，結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。中國塑料件真空鍍膜市場研究及發展趨勢預測。江門uv真空鍍膜技術

真空鍍膜的方法很多，主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合，兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優缺點。pvd真空鍍膜廠家真空鍍膜的物理過程和工藝流程。

UV電鍍噴涂與塑料真空鍍膜的區別主要概括如下：一，UV電鍍噴涂工藝簡單、綠色環保、用途普遍、是一種原料可回收利用的表面處理技術。各項指標都按照電鍍行業的標準做了相應的檢測，各種檢測報告完全符合國內外電鍍行業的要求。噴金鍍鉻機技術噴涂的制品，具有優異的附著力、抗沖擊力、耐氣候性、耐磨性和耐擦傷性，符合國內外大型汽車生產商和大型電器生產商等精密產品的要求，亦可作為其它行業的表面裝飾和保護等噴涂。該技術填補了目前國內市場環保電鍍的空白二，塑料真空鍍膜塑料具有質輕、性能優良，易成型，易加工等特點，應用范圍非常廣，是日常生活和國民經濟各部門不可缺少的材料。

在塑料表面進行真空噴鍍金屬 -----即在真空狀態下，將金屬融化后，以分子或原子形態沉積在塑料表面形成 5-10um 的金屬膜。真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間良好的配合， 底漆的厚度通常為 10-20um。主要作用是防止塑料中水、 有機溶劑、 增塑劑等排出影響金屬附著。要涂層硬度高、 底漆具有可以修復塑料缺陷，提供一個光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能， 并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組份常溫固化的聚氨酯和環氧涂料， 低溫烘烤的氨基涂料以及熱塑性丙烯酸酯涂料。金屬鍍膜在空氣中容易氧化變暗， 同時還存在細微的針型孔等缺陷， 所以要再涂上一層 5-10um 的保護面漆。對面漆的要求是：透明、優良的耐水性、耐磨性、耐候性、不操作金屬鍍膜， 對金屬鍍膜附著牢固，通常可采用丙烯酸酯清漆、 聚酯清漆、 聚氨酯清漆等。關于塑膠真空電鍍的一些知識。

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在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜技術初現于20世紀30年代，四五十年代開始出現工業應用，工業化大規模生產開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得的應用。真空鍍膜是指在真空環境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物liqi相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。江門uv真空鍍膜技術

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