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廣西工藝品真空鍍膜操作

來源: 發布時間:2022-01-06

真空鍍膜的方法很多,主要有:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面,凝結而成薄膜。(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內,保持壓強約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學氣相沉積:通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物,獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍:實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合,兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優缺點。全自動真空鍍膜的工藝流程。廣西工藝品真空鍍膜操作

真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支,它已普遍地應用于光學、電子學、能源開發,理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質表面的物理、化學性能的話,這一技術又是真空表面處理技術中的重要組成部分。在光學方面,一塊光學玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質的薄膜后,即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任何預期比例的反射或透射材料,也可以作成對某種波長的吸收,而對另一種波長的透射的濾色的片。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜,都很需要。廣西工藝品真空鍍膜操作納米鍍膜和真空鍍膜的區別。

由于底漆位于基材和鍍膜的中間,其性能應當滿足基材和真空鍍層兩方面的要求,具體包括以下幾個方面:(1)與塑料基材、真空鍍層均有較好的粘附性,這是作為真空鍍膜底漆應具備的Z基本性能;(2)應具有良好的流平性,這是決定真空鍍層是否具有高光澤和鏡面效果的關鍵;(3)不應含有揮發性小分子,主要是指殘留單體、揮發性添加劑、揮發性雜質和高沸點溶劑等,其在真空升溫環境下會逐漸逸出,從多方面破壞鍍膜質量和性能;(4)應具有一定的耐熱性,其熱膨脹性要和真空鍍層的熱脹冷縮性能相適應,抗熱形變和熱分解性能應滿足真空鍍膜工藝的要求;(5)對于柔性基材,底涂應具有足夠的柔韌性,否則易造成鍍層連帶開裂,甚至崩脫

真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較,具有下列優點:(1)薄膜和基體選材廣,薄膜厚度可進行控制,以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜,環境清潔,薄膜不易受到污染,因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結合強度好,薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產生廢液,也無環境污染。真空鍍膜技術主要有真空蒸發鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學氣相沉積等多種方法。真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較,具有上述一些優點。真空鍍膜的UV代表什么材料?

與濕式鍍膜技術相比較,真空鍍膜技術具有下列優點:(1)薄膜和基體選材廣,薄膜厚度可進行控制,以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜,環境清潔,薄膜不易受到污染,因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結合強度好,薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產生廢液,也無環境污染。真空鍍膜技術主要有真空蒸發鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學氣相沉積等多種方法。真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較,具有上述一些優點。真空鍍膜有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。廣西工藝品真空鍍膜操作

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發并凝結于鍍件表面而形成薄膜的一種方法。廣西工藝品真空鍍膜操作

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