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順德uv真空鍍膜加工設備

來源: 發布時間:2022-01-11

真空鍍膜技術主要有真空蒸發鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學氣相沉積等多種方法。除化學氣相沉積法外,其他幾種方法均具有以下的共同特點:(1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環境,以保證制膜材料在加熱蒸發或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動,不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并消除大氣中雜質的不良影響。(2)各種鍍膜技術都需要有一個蒸發源或靶子,以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進,擴大了制膜材料的選用范圍,無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質,都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜,而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發或濺射出來的制膜材料,在與待鍍的工件生成薄膜的過程中,對其膜厚可進行比較精確的測量和控制,從而保證膜厚的均勻性。淺談真空鍍膜技術的優點。順德uv真空鍍膜加工設備

因為在真空蒸鍍完之后還要噴一層UV光油面漆,這層面漆上可以做不同的顏色。蒸鍍通過鍍一些硅化物可以做成七彩色,但比較薄,近看可以,遠看不明顯,;濺射通過CSi、CO、Si等物質進行反應鍍可鍍出七彩色,或者通過低溫多層不同顏色的鍍膜來呈現多彩。而水電鍍的一般為金屬本色,要呈現其他顏色的需要涂UV面漆然后UV照射。為什么真空鍍膜的鍍鋁不導電?因為鍍膜總共有三層,外層的UV光油經UV照射后起到固化耐磨絕緣的作用,但是一旦這層膜被破壞就導電了。順德uv真空鍍膜加工設備UV真空鍍膜工藝流程是怎么樣的?

真空鍍膜與蒸發鍍膜機、濺射鍍膜機相比,主要有如下幾點:①膜/基結合力(附著力)強,膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產生的濺射作用,使基體受到清洗,jihuo及加熱,既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層,也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強擴散效應。既提高了基體表面層組織結晶性能,也提供了合金相形成的條件。而且,較高能量的離子轟擊,還可以產生一定的離子注入和離子束混合效應。②離子鍍膜機由于產生良好的繞射性。在壓力較高的情況下(≧1Pa)被電離的蒸汽的離子或分子在到達基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞。因此,可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。而且,被電離的膜材離子,還會在電廠的作用下沉積在具有負電壓基體表面的任意位置上。因此,這一點蒸發鍍是無法達到的。

pvd真空電鍍具備沉積速度更快和表層清理的特性,尤其具備膜層粘合力強、繞性好、可鍍原材料普遍等優勢。選用全世界優良的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝技術,及在這個基礎以上與國際性quán wēi**的加工工藝自主創新。憑著在裝飾設計鍍領域十多年的珍貴工作經驗,為顧客出示合適的鍍層生產加工計劃方案。pvd真空電鍍抗氧化性,耐腐蝕,抗腐蝕,有機化學特性平穩,抑酸。手機殼PVD鍍膜抵抗能力,鍍膜機殼非常容易消除漆料和指紋識別。在明顯的太陽,咸的濕地公園和大城市自然環境下,也不無光澤,不空氣氧化,不退色,不掉下來。高寬比抗磨損,耐刮擦,不容易刮傷。可鍍原材料普遍,與基材結合性強。一分鐘告訴你什么叫真空鍍膜!

真空鍍膜是真空應用領域的一個突破性技術,利用物理或者化學方法并吸收一系列新技術而成的工藝,目的就是為了在實際生產中為產品創造薄膜保護層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。為什么需要進行真空鍍膜呢?這項工藝已經成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術,主要是為了使產品表面具有耐磨損耐高溫,耐腐蝕等優于產品本身的性能,從而提高產品的質量,延長加工產品的使用壽命,不只如此,還可以節約能源,獲得更為明顯的技術經濟效益。實際應用中,我們往往會根據產品的性質來決定選用哪種真空鍍膜工藝。潤溢分享:真空鍍膜概述。佛山燈飾真空鍍膜公司

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UV鍍膜生產工藝的流程及參數:一:檢查線體,確認各系統(除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化)運轉正常;二:清洗基材表面,去除油污(用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面,并立即干燥);三:基材靜電除塵;四:噴涂底漆,膜厚:10~30微米,可根據具體基材和要求調整;五:在30℃~70℃的紅外環境下的流平5~15分鐘;六:UV固化,曝光能量:600~1200mJ/cm2;七:下線,稍冷卻,真空鍍膜(銦、銦-錫、鋁等);八:鍍膜完畢靜置冷卻(一般≥5分鐘,不超過4小時),再上中漆線體,或直接上面漆線體;九:噴涂中漆,膜厚:4~12微米,可根據需要添加色漿;十:在30℃~70℃的紅外環境下的流平5~15分鐘;十一:UV固化,曝光能量:300~800mJ/cm2;十二:噴涂面漆,膜厚:10~30微米,可根據需要添加色漿或啞漿;十三:在30℃~70℃的紅外環境下的流平5~15分鐘;十四:UV固化,曝光能量:800~1500mJ/cm2(顏色越深,所需能量越高);十五:下線檢測。順德uv真空鍍膜加工設備

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