UV鍍膜生產工藝流程及參數：一：檢查線體，確認各系統（除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化）運轉正常；二：清洗基材表面，去除油污（用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面，并立即干燥）；三：基材靜電除塵；四：噴涂底漆，膜厚：10～30微米，可根據具體基材和要求調整；五：在30℃～70℃的紅外環境下的流平5～15分鐘；六：UV固化，曝光能量：600～1200mJ/cm2；七：下線，稍冷卻，真空鍍膜（銦、銦-錫、鋁等）；八：鍍膜完畢靜置冷卻（一般≥5分鐘，不超過4小時），再上中漆線體，或直接上面漆線體；九：噴涂中漆，膜厚：4～12微米，可根據需要添加色漿；十：在30℃～70℃的紅外環境下的流平5～15分鐘；十一：UV固化，曝光能量：300～800mJ/cm2；十二：噴涂面漆，膜厚：10～30微米，可根據需要添加色漿或啞漿；十三：在30℃～70℃的紅外環境下的流平5～15分鐘；十四：UV固化，曝光能量：800～1500mJ/cm2（顏色越深，所需能量越高）；十五：下線檢測。為什么真空鍍膜是非常有前途的技術之一？山西工藝品真空鍍膜設備

在塑料表面進行真空噴鍍金屬 -----即在真空狀態下，將金屬融化后，以分子或原子形態沉積在塑料表面形成 5-10um 的金屬膜。真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間良好的配合， 底漆的厚度通常為 10-20um。主要作用是防止塑料中水、 有機溶劑、 增塑劑等排出影響金屬附著。要涂層硬度高、 底漆具有可以修復塑料缺陷，提供一個光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能， 并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組份常溫固化的聚氨酯和環氧涂料， 低溫烘烤的氨基涂料以及熱塑性丙烯酸酯涂料。金屬鍍膜在空氣中容易氧化變暗， 同時還存在細微的針型孔等缺陷， 所以要再涂上一層 5-10um 的保護面漆。對面漆的要求是：透明、優良的耐水性、耐磨性、耐候性、不操作金屬鍍膜， 對金屬鍍膜附著牢固，通常可采用丙烯酸酯清漆、 聚酯清漆、 聚氨酯清漆等。珠海塑膠真空鍍膜方法真空鍍膜附著力差的原因。

pvd真空電鍍具備沉積速度更快和表層清理的特性，尤其具備膜層粘合力強、繞性好、可鍍原材料普遍等優勢。選用全世界優良的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝技術，及在這個基礎以上與國際性quán wēi**的加工工藝自主創新。憑著在裝飾設計鍍領域十多年的珍貴工作經驗，為顧客出示合適的鍍層生產加工計劃方案。pvd真空電鍍抗氧化性，耐腐蝕，抗腐蝕，有機化學特性平穩，抑酸。手機殼PVD鍍膜抵抗能力，鍍膜機殼非常容易消除漆料和指紋識別。在明顯的太陽，咸的濕地公園和大城市自然環境下，也不無光澤，不空氣氧化，不退色，不掉下來。高寬比抗磨損，耐刮擦，不容易刮傷。可鍍原材料普遍，與基材結合性強。

一般來說塑料表面本身具有0.51nn左右的粗糙度，真空鍍膜的厚度不超過0.2μm，無法填平基材表面的凹凸不平，得不到理想的鏡面效果，UV涂層厚度達到10-20μm，表面平整度在0.1μm以下，可填平基材缺陷并得到理想的鍍膜效果。三，獲得更厚的真空電鍍層.用底漆過渡,有利于獲得更厚獲得更厚的鍍層,使產品得到更高的反射效果和力學性能。四，附著性.對于一些極性較差的塑膠,通過底漆過渡,可以獲得較強的鍍層附著性。五，耐熱性.塑膠熱變形溫度一般較低,通過底漆過渡,可以起到一定的熱緩沖作用,保護塑膠免遭熱變形。中國塑料件真空鍍膜市場研究及發展趨勢預測。

真空不導電電鍍和普通真空電鍍有何區別?真空鍍膜就是將塑膠，薄膜等制品置于高真空爐內。對鋁，錫，銦等金屬加熱，使之蒸發形成金屬氣體，金屬氣體在高真空條件下自由散發，冷卻后附著于被蒸鍍物表面上，形成金屬薄膜。 真空鍍膜為什么要噴底漆和面漆?真空鍍膜前噴底漆能增加金屬層和塑材之間的附著度，使塑材表面平坦光滑。電鍍后光澤度好。-真空鍍膜后噴面漆起保護鍍層，防止氧化，污染。增強表面耐磨。耐刮性能。通過增加染料等物質達到表面美觀多樣化的目的。-真空不導電電鍍和普通真空電鍍有何區別?真空不導電電鍍，又稱NCVM。普通真空電鍍習慣稱PVD。真空不導電電鍍的加工工藝緣于普通真空電鍍，卻比其制程復雜的多，主要區別是其電鍍區域不導電，從而不影響手機等通訊公具的收訊效果(如無雜音，對人產生影響等。)現在3G產業中，廣為流傳推廣的表面處理就是NCVM。-UV是一種鍍膜環保油墨。廣東汽車真空鍍膜方法

真空鍍膜技術從四十年代開始，發展很快。山西工藝品真空鍍膜設備

塑料真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理汽相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。山西工藝品真空鍍膜設備

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