氧化鋁陶瓷分為高純型與普通型兩種。高純型氧化鋁陶瓷系Al2O3含量在99．9%以上的陶瓷材料，由于其燒結溫度高達1650—1990℃，透射波長為1～6μm，一般制成熔融玻璃以取代鉑坩堝；利用其透光性及可耐堿金屬腐蝕性用作鈉燈管；在電子工業(yè)中可用作集成電路基板與高頻絕緣材料。普通型氧化鋁陶瓷系按Al2O3含量不同分為99瓷、95瓷、90瓷、85瓷等品種，有時Al2O3含量在80%或75%者也劃為普通氧化鋁陶瓷系列。其中99氧化鋁瓷材料用于制作高溫坩堝、耐火爐管及特殊耐磨材料，如陶瓷軸承、陶瓷密封件及水閥片等；95氧化鋁瓷主要用作耐腐蝕、耐磨部件；85瓷中由于常摻入部分滑石，提高了電性能與機械強度，可與鉬、鈮、鉭等金屬封接，有的用作電真空裝置器件。氧化鎂陶瓷可用于制作高溫陶瓷瓶身支撐結構。杭州耐磨陶瓷加工廠家

氧化鋁陶瓷作為先進陶瓷中應用廣的一種材料，伴隨著整個行業(yè)的發(fā)展呈現(xiàn)以下發(fā)展趨勢：（1）技術裝備水平將快速提高： 計算機技術和數(shù)字化控制技術的發(fā)展促進了先進陶瓷材料工業(yè)的技術進步和快速發(fā)展，諸如自動控制連續(xù)燒結窯爐、大功率大容量研磨設備、高性能制粉造粒設備等凈壓成型設備等先進的成套設備有利地推動了行業(yè)整體水平的提高，同時在生產(chǎn)效率、產(chǎn)品質(zhì)量等方面也都明顯改善；（2）產(chǎn)品質(zhì)量水平不斷提高：國內(nèi)微晶氧化鋁陶瓷制品從無到有，產(chǎn)業(yè)規(guī)模從小到大，產(chǎn)品質(zhì)量從低到較高，經(jīng)歷了一個快速發(fā)展的歷程；（3）產(chǎn)業(yè)規(guī)模將迅速擴大：微晶氧化鋁陶瓷制品作為其它行業(yè)或領域的基礎材料，受著其它行業(yè)發(fā)展水平的影響和限制。從氧化鋁陶瓷的應用情況看，應用范圍越來越寬，用量越來越大，特別是在防磨工程和建筑陶瓷生產(chǎn)方面的用量增加將更為明顯。莆田絕緣子陶瓷零售氧化鎂陶瓷可用于制作高溫陶瓷瓶口密封設備。

宜興市國泰陶瓷科技有限公司位于風景秀麗的太湖之濱——陶都宜興。是專業(yè)生產(chǎn)各類氧化鋁陶瓷、滑石瓷；如：99瓷、95瓷、電子陶瓷，電器陶瓷、紡織陶瓷、陶瓷絕緣環(huán)、燈具陶瓷、儀表陶瓷、三氧化二鋁陶瓷、發(fā)熱陶瓷，裝飾陶瓷等的生產(chǎn)廠家。產(chǎn)品用于電器、電子、電熱等行業(yè)，產(chǎn)品具有耐磨損，耐高溫，耐腐蝕，絕緣性能好等特點，深受廣大用戶好評。本公司以科技為先導，實施現(xiàn)代化管理，生產(chǎn)工藝先進、設備齊全，并具備了產(chǎn)品檢測手段，不斷創(chuàng)新，竭誠為用戶服務是本公司一貫奉行的宗旨，我們將與新老客戶，共同發(fā)展，共創(chuàng)光輝前景。

氧化鋁陶瓷是一種高性能陶瓷材料，具有優(yōu)異的物理、化學和機械性能。它的主要成分是氧化鋁，因此也被稱為氧化鋁陶瓷。氧化鋁陶瓷具有高硬度高耐磨性、高耐腐蝕性、高絕緣性和高溫穩(wěn)定性等特點，因此被廣泛應用于航空、航天、電子、化工、醫(yī)療等領域。氧化鋁陶瓷的制備方法主要有燒結法、凝膠注模法、等離子噴涂法等。其中，燒結法是常用的制備方法。燒結法是將氧化鋁粉末經(jīng)過壓制成型后，在高溫下進行燒結，使其形成致密的陶瓷材料。凝膠注模法是將氧化鋁粉末與有機物混合后，通過凝膠化、干燥、燒結等步驟制備而成。等離子噴涂法是將氧化鋁粉末通過等離子噴涂技術噴涂在基材上，形成氧化鋁陶瓷涂層。氧化鎂陶瓷可用于制作高溫陶瓷瓶口密封裝置。

氮化硅、碳化硅等新型陶瓷還可用來制造發(fā)動機的葉片、切削刀具、機械密封件、軸承、火箭噴嘴、爐子管道等，具有非常普遍的用途。利用陶瓷對聲、光、電、磁、熱等物理性能所具有的特殊功能而制造的陶瓷材料稱為功能陶瓷。功能陶瓷種類繁多，用途各異。例如，根據(jù)陶瓷電學性質(zhì)的差異可制成導電陶瓷、半導體陶瓷、介電陶瓷、絕緣陶瓷等電子材料，用于制作電容器、電阻器、電子工業(yè)中的高溫高頻器件，變壓器等電子零件。利用陶瓷的光學性能可制造固體激光材料、光導纖維、光儲存材料及各種陶瓷傳感器。此外，陶瓷還用作壓電材料、磁性材料、基底材料等。總之，新型陶瓷材料幾乎遍及現(xiàn)代科技的每一個領域，應用前景十分廣闊。氧化鎂陶瓷可用于制作高溫陶瓷瓶蓋。溫州99氧化鋁陶瓷棒廠家

氧化鎂陶瓷可用于制作電子元件的絕緣基板。杭州耐磨陶瓷加工廠家

精密陶瓷氨化硅代替金屬制造發(fā)動機的耐熱部件，能大幅度提高工件溫度，從而提高熱效率，降低燃料消耗，節(jié)約能源，減少發(fā)動機的體積和重量，而且又代替了如鎳、鉻、鈉等重要金屬材料，所以，被人們認為是對發(fā)動機的一場。氮化硅可用多種方法制備，工業(yè)上普遍采用高純硅與純氮在1600K反應后獲得：3Si+2N2 =Si3N4（條件1600K）也可用化學氣相沉積法，使SiCl4和N2在H2氣氛保護下反應，產(chǎn)物Si3N4積在石墨基體上，形成一層致密的Si3N4層。此法得到的氮化硅純度較高，其反應如下：SiCl4+2N2+6H2→Si3N4+12HCl。杭州耐磨陶瓷加工廠家