D8DISCOVER應用范圍材料研究殘余應力分析、織構和極圖、微區X射線衍射、廣角X射線散射（WAXS）XRD可研究材料的結構和物理特性，是重要的材料研究工具之一。D8DISCOVER就是布魯克推出的、用于材料研究的旗艦款XRD儀器。D8DISCOVER配備了技術超過的組件，可為您帶來較好的性能和充分的靈活性，同時讓研究人員對材料進行細致入微的表征：定性相分析和結構測定微米應變和微晶尺寸分析應力和織構分析粒度和粒度分布測定使用微米大小的X射線束進行局部XRD分析倒易空間掃描全能運動概念確保當樣品在移動時，感興趣區域始終在測角儀中心，從φ旋轉到XYZ平移和ψ傾斜，有5個自由度。石棉

EIGER2R具有多模式功能（0D-1D-2D、快照和掃描模式），覆蓋了從粉末研究到材料研究的多種測量方法。EIGER2并非傳統意義上的萬金油，而是所有分析應用領域的專業用戶。其可實現無吸收測量的動態范圍、用于超快粉末測量和快速倒易空間掃描的1D大尺寸以及超過500k像素的2D大覆蓋范圍，都為多模式探測器樹立了新標準。EIGER2采用了DECTRIS公司研發的光束探測器技術，整合了布魯克的軟件和硬件，可為您帶來無縫易用的解決方案。由于具有出色的適應能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。重慶全新XRD衍射儀這種X射線源可提供高亮度光束，對mm大小的樣品研究，或使用μm大小光束進行微區X射線衍射研究的理想選擇。

超薄HfO2薄膜XRR測試引言隨著晶體管節點技術的發展，薄膜厚度越來越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在該技術節點的a20范圍內。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度，XRR是的測量技術。由于具有出色的適應能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設計實現的：配置儀器時，免工具、免準直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標樣剛玉（SRM1976）的準直保證。目前，在峰位、強度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。

藥用滑石粉中石棉的測定引言滑石粉主要成分是滑石（含水的硅酸鎂）。滑石粉用于醫藥、食品行業的添加劑。在滑石成礦過程中，常伴生有其他礦石，如角閃石和蛇紋石等石棉成分。石棉為物質。而根據中國藥典，藥用滑石粉中，石棉應“不得檢出”。在2θ=10.5±0.1°處的XRD特征峰為角閃石特征峰，在2θ=12.1±0.1°和2θ=24.3±0.1°處的XRD特征峰為蛇紋石特征峰。無論是新手用戶還是專業用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設計實現的：配置儀器時，免工具、免準直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不僅如此——布魯克提供基于NIST標樣剛玉（SRM1976）的準直保證。目前，在峰位、強度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。在DIFFRAC.LEPTOS中，使用sin2psi法，用Cr輻射進行測量，對鋼構件的殘余應力進行分析。

D2PHASER所具備的數據質量和數據采集速度遠超目前人們對臺式XRD系統的認知。緊湊輕便的外形和易于使用的設計，十分便于移動，您無需準備復雜的基礎框架、大而笨重的工作臺，也無需供應商前來安裝和調整，只需準備標準的電源插座，然后花費幾分鐘的時間，即可完成從拆包到獲得分析結果的過程。D2PHASERXE-T版D2PHASER配備了獨特的LYNXEYEXE-T探測器，已然成為同類更好的選擇！小于380eV的能量分辨率使其支持的數字單色器模式，可有效去除——不必要的輻射，如樣品熒光，Kβ輻射以及軔致輻射——背景散射，而不會明顯降低檢測速度。使用D8D，您將能在原位循環條件下測試電池材料，直截了當地獲取不斷變化的儲能材料和晶體結構和相位信息。深圳點陣參數精確測量XRD衍射儀推薦咨詢

樣品臺的卡口座允許在測角儀上快速準確地更換整個樣品臺，較大限度地提高實驗靈活性。石棉

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個納米到幾個微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄，薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規的XRD測試，X射線的穿透深度一般在幾個微米到幾十個微米，這遠遠大于薄膜的厚度，導致薄膜的信號會受到襯底的影響（圖1）。另外，如果衍射簡單較高，那么X射線只能輻射到部分樣品，無法利用整個樣品的體積，衍射信號弱。薄膜掠入射衍射（GID：GrazingIncidenceX-RayDiffraction）很好的解絕了以上問題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角（＜5°）照射到薄膜上，小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度，同時增加衍射顆粒的數目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點說明：GID需要硬件配置；常規GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜，不適合單晶外延膜。石棉