與現有技術相比,本發明的技術方案具有以下優點:本發明提供的靶材拋光裝置的技術方案中,所述靶材拋光裝置包括:固定板,所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側的側板;拋光片,位于所述固定板內側面上,其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧狀。位于固定板彎折處的拋光片表面適于對靶材經圓角處理的側棱進行拋光,位于側板上的所述拋光片表面適于對靶材側壁表面進行拋光。所述靶材拋光裝置能夠對靶材側壁表面及經圓角處理的側棱同時進行拋光,因此所述靶材拋光裝置有助于提高對靶材表面進行拋光的作業效率。可選方案中,所述防護層為彈性材料,所述防護層的質地軟,能夠在所述固定板及靶材間提供緩沖,避免所述固定板觸撞靶材導致靶材受損。金屬化合物的二次電子發射系數比金屬的高,靶中毒后,靶材表面都是金屬化合物。蘇州二硼化鈦靶材貼合
等離子預處理工藝在真空鍍鋁膜中的應用。 等離子體是電離了的氣體。它由電子、離子和中性粒子3種成分組成,其中電子和離子的電荷總數基本相等,故整體是電中性的。在基材薄膜鍍鋁前,通過等離子處理裝置將電離的等離子體中的電子或離子打到基材薄膜表面,一方面,可以打開材料的長分子鏈,出現高能基團;另一方面,經打擊使薄膜表面出現細小的凹陷,同時還可使表面雜質離解、重解。電離時放出的臭氧有強氧化性,附著的雜質被氧化而除去,使鍍鋁基材薄膜的表面自由能提高,達到提高鍍鋁層附著牢度的目的。 等離子預處理技術在不同公司其稱呼不同,如英國Bobst公司、德國Leybold Optic萊寶光電等稱之為等離子預處理,美國Applied Material公司稱之為輝光放電,英國Rexam公司為其注冊商標為Camplus技術。另外,不同公司其使用的工藝氣體的組分也有所不同,多數公司使用氧氣和氬氣的組合,也有少數公司使用氮氣或氧氣與氮氣的組合。實踐證明經過等離子處理后的薄膜其鍍鋁層附著牢度可以提高30-50%,且表現為非極性材料提高幅度高于極性材料。南通NiCr靶材貼合導電膠:采用的導電膠要耐高溫,厚度在0.02-0.05um。
非晶硅薄膜的制備方法 非晶硅薄膜的制備方法有很多,如低壓化學氣相沉積(LPCVD),等離子體增強化學氣相沉積(PECVD),直流(射頻)磁控濺射等。生長多晶硅薄膜的方法有:化學氣相沉積包括低壓化學氣相沉積(LPCVD)、大氣壓強化學氣相沉積(APCVD)、等離子體化學氣相沉積(PCVD)以及液相生長、激光再晶化和固相晶化法(SPC)等。固相晶化法是指在(高溫)退火的條件下,使固態非晶硅薄膜的硅原子被、重組,從而轉化為多晶硅薄膜。它的特點是非晶固體發生晶化的溫度低于其熔融后結晶的溫度。常規高溫爐退火、快速熱退火、金屬誘導晶化、微波誘導晶化等都屬于固相晶化的范疇。本文采用PECVD 和磁控濺射方法在不同的條件下制備了a- Si: H 和a- Si 薄膜,并采取高溫退火和激光誘導晶化的方式,利用X- 射線衍射及拉曼光譜,對制備的非晶硅薄膜晶化過程進行了系統地研究。
鈀,是銀白色過渡金屬,較軟,有良好的延展性和可塑性,能鍛造、壓延和拉絲。塊狀金屬鈀能吸收大量氫氣,使體積脹大,變脆乃至破裂成碎片。 ;原子量:106.4 ;密度(20℃)/g?cm-3:12.02 ;熔點/℃:1552 ;蒸發溫度/℃:1460 ;沸點/℃:3140 ;汽化溫度/℃:1317 ;比熱容(25℃)J?(g?K)-1:0.2443 ;電阻率(0℃)/uΩ?cm:10.6 ;熔化熱/kJ?mol-1:16.7 ;汽化熱/kJ?mol-1:361.7 ;熱導率(0~100℃)/J?(cm?s?℃)-1:0.753 ;電阻溫度系數(0~100℃)/℃-1:0.0038 ;外觀:銀白色 ;蒸發源(絲、片):W(鍍Al2O3) ;坩堝:Al2O3 ;性質:與難溶金屬形成合金,閃爍蒸發,在EB***內激烈飛濺,鈀是銀白色過渡金屬,較軟,有良好的延展性和可塑性,能鍛造、壓延和拉絲。塊狀金屬鈀能吸收大量氫氣,使體積***脹大,變脆乃至破裂成碎片。化學性質不活潑,常溫下在空氣和潮濕環境中穩定,加熱至800℃,鈀表面形成一氧化鈀薄膜。選擇能實現快速致密化的成形燒結技術,以保證靶材的低孔隙率,并控制晶粒度。
氣體壓強對靶濺射電壓的影響 在磁控濺射或反應磁控濺射鍍膜的工藝過程中,工作氣體或反應氣體壓強對磁控靶濺射電壓能夠造成一定的影響。 1.工作氣體壓強對靶濺射電壓的影響 一般的規律是:在真空設備環境條件確定和靶電源的控制面板設置參數不變時,隨著工作氣體(如氬氣)壓強(0.1~10Pa)的逐步增加,氣體放電等離子體的密度也會同步增加,致使等離子體等效阻抗減小,磁控靶的濺射電流會逐步上升,濺射工作電壓亦會同步下降。 2. 反應氣體壓強對靶濺射電壓的影響 在反應磁控濺射鍍膜的工藝過程中,在真空設備環境條件確定和靶電源的控制面板設置參數不變時,隨著反應氣體(如氮氣、氧氣)壓強(或流量)的逐步增加(一般應注意不要超過工藝設定值的上限值),隨著磁控靶面和基片(工件)表面逐步被絕緣膜層覆蓋,陰-陽極間放電的等效阻抗也會同步增高,磁控靶的濺射電流會逐步下降(直至“陰極中毒”和“陽極消失”為止),濺射工作電壓亦會同步上升。
正離子堆積:靶中毒時,靶面形成一層絕緣膜。氮化硅靶材綁定
主要由三種方式:壓接、釬焊和導電膠。蘇州二硼化鈦靶材貼合
濺射鍍膜不良膜層分析,改善方法: 1.白霧主要表現:膜層外觀一層白霧。 原因分析及改善:(白霧可擦拭):外層膜松散粗糙;出爐溫差大;潮氣吸附;膜層結構不均勻;反應氣體不足/不均勻;外層膜應力大等。 (白霧不可擦拭):殘留臟污;材腐蝕污染;膜層之間不匹配;反應氣體不足/不均勻;基材受潮污染;真空室臟有水汽;環境溫差大。 2.發蒙主要表現:膜層表面粗糙無光。 原因分析及改善:設備漏氣;反應氣體故障;膜層過厚;偏壓故障; 3.色斑主要表現:局部膜色變異。 原因分析及改善:腐蝕,局部折射率改變;前道工程夾具加工方法痕跡(形狀規則、部位一致、界限分明); 周轉運輸庫存過程留下痕跡;研磨拋光殘留;多層膜系中,部分膜層過薄;機組微量返油。 4.打火 5.碰擦傷主要表現:劃痕碰傷。 原因分析及改善:劃痕有膜層:鍍前碰擦傷;劃痕無膜層(漏基材):鍍后碰擦傷。
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江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司,濺射靶材充分借鑒國外的先進技術,并通過與國內外知名研發機構合作,整合各行業資源優勢,生產出多系列高品質濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬,合金,陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累,已經擁有:真空熱壓,冷壓燒結,真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供高品質的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺,冷壓燒結爐一臺,真空熔煉設備兩臺,等靜壓設備一臺,等離子噴涂兩套,綁定平臺兩套,各類機加工設備七臺,檢驗設備若干,確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承:“一切以客戶的需求為導向,客戶的所有需求一次做好。”的發展理念。