購買靶材的注意事項有哪些許多用戶在采購靶材時沒有從專業的角度去考慮,下面為大家指出購買靶材時需要注意的事項。對于所有的金屬來說,純度是靶材的主要性能指標之一,靶材的純度對后期產品薄膜的性能影響很大。但是每一個產品對靶材的純度要求也有不相同的地方。其次就是靶材的雜質含量。在經過一系列的靶材工藝處理后靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。因為用處不一樣,所以不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。比如現在的半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材,對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
磁控濺射金屬靶時,無法起輝的原因有很多,常見主要原因。揚州鈷酸鋰靶選型
ITO薄膜制作過程中的影響因素 ITO薄膜在濺鍍過程中會產生不同的特性,有時候表面光潔度比較低,出現“麻點”的現象,有時候會出現高蝕間隔帶,在蝕刻時還會出現直線放射型缺劃或電阻偏高帶,有時候會出現微晶溝縫。 常用的ITO靶材是通過燒結法生產的,就是由氧化銦(In2O3)和氧化錫(SnO2)粉末按照一定的比例進行混合,通常質量比是90%In2O3和10% SnO2,形成的黑灰色陶瓷半導體(氧化銦錫,ITO)。一般通過外觀就可以了解ITO靶材的質量,深灰色是好的,相反越黑質量越差,我國生產的ITO靶材質量還可以的是黑灰色的。 研究顯示,在真空鍍膜機ITO薄膜濺鍍過程中,使用磁控濺射的方式,基底溫度控制在200℃左右可以保證薄膜85%以上高可見光透過率下,電阻率達到低,而薄膜的結晶度也隨著基底溫度的提高而提高,晶粒尺寸也逐漸增大,超過200℃后透射率趨于減弱;使用電子束蒸鍍的方式,隨著退火溫度升高,晶粒尺寸變大,表面形貌均一穩定,超過600℃后顆粒變得大小不一,形狀各異,小顆粒團聚現象嚴重,薄膜表面形貌破壞。成都碲靶費用果用冷卻壁的翹曲程度嚴重或背板翹曲嚴重會造成靶材安裝時發生開裂或彎曲。
靶材安裝及注意事項有哪些?濺射靶材安裝過程中**重要的注意事項是一定要確保在靶材和濺射***冷卻壁之間建立很好的導熱連接。如果用冷卻壁的翹曲程度嚴重或背板翹曲嚴重會造成靶材安裝時發生開裂或彎曲,背靶到靶材的導熱性能就會受到很大的影響,導致在濺射過程中熱量無法散發**終會造成靶材開裂或脫靶。為確保足夠的導熱性,可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請注意一定要仔細檢查和明確所使用濺射***冷卻壁的平整度,同時確保O型密封圈始終在位置上。由于所使用冷卻水的潔凈程度和設備運行過程中可能會產生的污垢會沉積在陰極冷卻水槽內,所以在安裝靶材時需要對陰極冷卻水槽進行檢查和清理,確保冷卻水循環的順暢和進出水口不會被堵塞。
濺射靶材的制備濺射靶材的制備按工藝可分為熔融鑄造和粉末冶金兩大類,除嚴格控制材料純度、致密度、晶粒度以及結晶取向之外,對熱處理條件、后續加工方法等亦需加以嚴格控制。一、粉末冶金法粉末冶金法制備靶材時,其關鍵在于:(1)選擇高純、超細粉末作為原料;(2)選擇能實現快速致密化的成形燒結技術,以保證靶材的低孔隙率,并控制晶粒度;(3)制備過程嚴格控制雜質元素的引入。二、熔融鑄造法熔融鑄造法是制作濺射靶材的基本方法之一。為保證鑄錠中雜質元素含量盡可能低,通常其冶煉和澆注在真空或保護性氣氛下進行。但鑄造過程中,材料組織內部難免存在一定的孔隙率,這些孔隙會導致濺射過程中的微粒飛濺,從而影響濺射薄膜的質量。為此,需要后續熱加工和熱處理工藝降低其孔隙率。
1. 靶材安裝準確否? 2. 靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質,打磨清理干凈后即可。
電致變色智能玻璃的特點:電致變色智能玻璃在電場作用下具有光吸收透過的可調節性,可選擇性地吸收或反射外界的熱輻射和內部的熱的擴散,減少辦公大樓和民用住宅在夏季保持涼爽和冬季保持溫暖而必須消耗的大量能源。同時起到改善自然光照程度、防窺的目的。解決現代不斷惡化的城市光污染問題。是節能建筑材料的一個發展方向。調光玻璃的調光原理是:在自然狀態下(斷電不加電場),它內部液晶的排列是無規則的,液晶的折射率比外面聚合物的折射率低,入射光在聚合物上發生散射,呈乳白色,即不透明。當加上電場(通電)以后,有彌散分布液晶的聚合物內液滴重新排列,液晶從無序排列變為定向有序排列,使液晶的折射率與聚合物的折射率相等,入射光完全可以通過,形成透明狀態。如果不能及時調整反應氣體流量,化合物覆蓋面積增加的速率得不到***,濺射溝道將進一步被化合物覆蓋。南京鈦酸鍶鋇靶作用
背靶到靶材的導熱性能就會受到很大的影響,導致在濺射過程中熱量無法散發終會造成靶材開裂或脫靶。揚州鈷酸鋰靶選型
簡單地說,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,通過更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。目前,(高純度)濺射靶材按照化學成分不同可分為:①金屬靶材(純金屬鋁、鈦、銅、鉭等)②合金靶材(鎳鉻合金、鎳鈷合金等)③陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等)。按開關不同可分為:長靶、方靶、圓靶。按應用領域不同可分為:半導體芯片靶材、平面顯示器靶材、太陽能電池靶材、信息存儲靶材、工具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。濺射:即集成電路制造過程中要反復用到的工藝;靶材:就是濺射工藝中必不可少的重要原材料。那么,不同應用領域,對材料的選擇及性能要求也有一定差異。 揚州鈷酸鋰靶選型
江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司,濺射靶材充分借鑒國外的先進技術,并通過與國內外知名研發機構合作,整合各行業資源優勢,生產出多系列高品質濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬,合金,陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累,已經擁有:真空熱壓,冷壓燒結,真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供高品質的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺,冷壓燒結爐一臺,真空熔煉設備兩臺,等靜壓設備一臺,等離子噴涂兩套,綁定平臺兩套,各類機加工設備七臺,檢驗設備若干,確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承:“一切以客戶的需求為導向,客戶的所有需求一次做好。”的發展理念。