高純金屬的概念： 任何金屬都不能達到純。“高純”和“超純”具有相對的含義，是指技術上達到的標準。由于技術的發展，也常使“超純”的標準升級。例如過去高純金屬的雜質為 ppm級（即百萬分之幾）,而超純半導體材料的雜質達ppb級（十億分之幾）,并將逐步發展到以ppt級（一萬億分之幾）表示。實際上純度以幾個“9”(N)來表示（如雜質總含量為百萬分之一，即稱為6個“9”或6N），是不完整概念，如電子器件用的超純硅以金屬雜質計算，其純度相當于9 個“9”。 但如計入碳，則可能不到6個“9”。“超純”的相對名詞是指“雜質”，廣義的雜質是指化學雜質（元素）及“物理雜質”，后者是指位錯及空位等，而化學雜質是指基體以外的原子以代位或填隙等形式摻入。但只當金屬純度達到很高的標準時(如純度 9N 以上的金屬)，物理雜質的概念才是有意義的， 因此目前工業生產的金屬仍是以化學雜質的含量作為標準，即以金屬中雜質總含量為百萬分之幾表示。

濺射靶材射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。南京鈦鋯酸鉛靶品牌

什么是3D玻璃？ 現在數碼產品使用的玻璃蓋板分為：2D玻璃，2.5D玻璃，還有3D玻璃。2D玻璃就是普通的純平面玻璃，沒有任何弧形設計；2.5D玻璃則為中間是平面的，但邊緣是弧形設計；而3D屏幕，無論是中間還是邊緣都采用弧形設計。 3D曲面玻璃的特色符合 3C 產品設計需求。3C 產品設計如智能手機、智能手表、平板計算機、可穿戴式智能產品、儀表板等陸續出現 3D 產品，已經明確引導3D曲面玻璃發展方向。3D曲面玻璃輕薄、透明潔凈、抗指紋、防眩光、堅硬、耐刮傷、耐候性佳等優點，可型塑做出3D多形狀外觀具有產品特殊設計新穎性與質感佳，又可增加弧形邊緣觸控功能帶來出色的觸控手感、無線充電機能，并能解決天線布置空間不足及增強收訊功能，使產品更美觀出色，產品設計差異化使消費者更能青睞。揚州釕酸鍶靶功能半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

真空鍍膜設備維修保養技巧 1、真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。 方法：用燒堿(NaOH)飽和溶液反復擦洗真空室內壁，( 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發生反應，反應后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內的污垢。 2、當粗抽泵(滑閥泵，旋片泵)連續工作一個月(雨季減半)，需更換新油。 方法：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數秒，使泵內的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量(油視鏡觀察)。連續使用半年以上，換油時應將油蓋打開，用布擦干凈箱內污垢。 3、擴散泵連續使用6個月以上，抽速明顯變慢。 擴散泵連續使用6個月以上，抽速明顯變慢，或操作失當，充入大氣，拆去聯結水管，卸下電爐盤，將一級噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發干以后，裝好泵膽，加入新擴散泵油，并裝回機體，接好水管，裝好電爐盤，便可以重新開機。在重新開機前，要注意檢漏工作。

中頻雙靶反應磁控濺射與直流反應磁控濺射相比具有以下幾個顯巨優點：   (1)消除了靶面打弧放電現象，中頻反應磁控濺射鍍制的絕緣薄膜與直流反應磁控濺射鍍制的同種膜相比，膜面缺 陷要少幾個數量級;   (2)可以得到比直流反應磁控濺射高出數倍的濺射沉積速率;   (3)中頻雙靶反應磁控濺射的整個濺射沉積過程，可以始終穩定在所設定的工作點上，為大規模工業化穩定生產提供了條件。   選用非對稱雙極脈沖靶電源與選用“雙靶-中頻靶電源”不同，使用單個磁控靶進行反應磁控濺射，調節相應的鍍膜工藝參數，可以消除磁控靶面打弧放電現象和實現長時間穩定的薄膜沉積，可以達到上述“中頻-雙靶反應磁控濺射”的同樣效果。

靶材密度越高，薄膜的性能越好。

真空離子鍍在航空航天方面的應用： 在現代飛機、航空發動機或航空儀表中，特別是在航宇器，如宇宙飛船、人造衛星中，有不少旋轉零件都要求有良好的潤滑，但往往由于封存過久、環境溫度過高或太空揮發等原因，普通油脂潤滑劑已不再適用，從而提出以固體潤滑劑代替。試驗表明，用離子鍍來制作固體潤滑膜，比現有其他方法為優。不但附著力強，鍍層又薄又勻，不影響零件的尺寸精度和公差配合。經濟性也好，少許潤滑材料即可鍍很大面積。潤滑膜的質量也較好，摩擦系數小，使用壽命也長。例如有一個人造衛星上的精密軸承，未鍍前工作壽命為幾分鐘，根本無法使用;但是經離子鍍固體潤滑膜后，則可在飛行中可靠地工作數千小時之久。離子鍍不能夠鍍許多種常溫固體潤滑材料，而且還能鍍復各種高溫固體潤滑材料，有的甚至可以在攝氏八百度以上的高溫下發揮良好的潤滑作用?？慑兊墓腆w潤滑材料有銀、金、銅、鉛、鉛錫合金、氟化物等。由于所使用冷卻水的潔凈程度和設備運行過程中可能會產生的污垢會沉積在陰極冷卻水槽內。揚州釕酸鍶靶功能

靶中毒的解決辦法：采用閉環控制反應氣體的通入量。南京鈦鋯酸鉛靶品牌

非晶硅薄膜的制備方法   非晶硅薄膜的制備方法有很多，如低壓化學氣相沉積(LPCVD)，等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)，直流(射頻)磁控濺射等。生長多晶硅薄膜的方法有：化學氣相沉積包括低壓化學氣相沉積(LPCVD)、大氣壓強化學氣相沉積(APCVD)、等離子體化學氣相沉積(PCVD)以及液相生長、激光再晶化和固相晶化法(SPC)等。固相晶化法是指在(高溫)退火的條件下，使固態非晶硅薄膜的硅原子被、重組，從而轉化為多晶硅薄膜。它的特點是非晶固體發生晶化的溫度低于其熔融后結晶的溫度。常規高溫爐退火、快速熱退火、金屬誘導晶化、微波誘導晶化等都屬于固相晶化的范疇。本文采用PECVD 和磁控濺射方法在不同的條件下制備了a- Si: H 和a- Si 薄膜，并采取高溫退火和激光誘導晶化的方式，利用X- 射線衍射及拉曼光譜，對制備的非晶硅薄膜晶化過程進行了系統地研究。

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江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發機構合作，整合各行業資源優勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好。”的發展理念。