拋光片第二部分320呈弧狀，與經圓角處理的靶材側棱相匹配，可對靶材側棱進行拋光。所述拋光片第三部分330表面為平整的平面，能夠對靶材側壁表面進行拋光。因此所述靶材拋光裝置100能夠同時對靶材側壁表面及經圓角處理的側棱進行拋光，有助于提高拋光作業效率。由于操作人員同時對靶材側壁表面及經圓角處理的側棱進行拋光，因此操作人員施加在靶材側壁表面及側棱上的力度差異小，拋光工藝結束后，靶材側壁表面及經圓角處理的側棱表面具有相近似甚至完全相同的平整度，使得拋光表面具有良好的均一性，有助于改善濺射鍍膜質量。若分步驟對靶材側壁表面及經圓角處理的側棱表面進行拋光，操作人員在兩個步驟中施加的力度容易差別較大，造成拋光處理后，靶材側壁表面與側棱表面粗糙度差異大，使得靶材側壁表面與側棱表面交接處具有臺階。在濺射鍍膜過程中，所述臺階容易導致前列放電，影響濺射鍍膜的均一性，造成鍍膜質量差。金屬靶表面氧化或有不清潔物質，打磨清理干凈后即可。無錫TaC靶材工廠

磁控濺射制備非晶硅薄膜   本實驗采用石英玻璃為襯底，實驗前先將玻璃襯底浸泡在溶液中，放到JHN- 4F(200 W)超聲波清洗機清洗30 min;然后用分析乙醇同樣在超聲波清洗機中清洗30 min; 放入裝有去離子水的燒杯中在超聲波清洗器中清洗約30 min 后晾干。然后以高純硅為靶材在JGP500型超高真空磁控濺射設備上，分別采用直流和射頻方式制備了兩塊樣品。在濺射前，預濺射5 min以除去靶材表面氧化物。1# 樣品采用直流磁控濺射方式， 濺射功率為100 W， 本底真空度6×10- 4 Pa ， 濺射時間20 min，濺射氣壓0.5 Pa，襯底溫度為室溫。2#樣品采用射頻磁控濺射方式，濺射功率150 W，本底真空度6×10- 4 Pa，濺射時間120 min，濺射氣壓2.0 Pa，襯底溫度為室溫。樣品1# 和2# 均切為3 小塊，其中各保留一小塊不做退火處理，其他的小塊樣品處理情況為1#750℃、1#850℃，2#750℃、2#850℃在馬弗爐中退火1h。將1# 和2#未處理樣品用拉曼激光誘導方法，研究非晶硅薄膜的晶化過程。蘇州Tb靶材調試由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？

靶中毒的解決辦法（1）采用中頻電源或射頻電源。（2）采用閉環控制反應氣體的通入量。（3）采用孿生靶（4）控制鍍膜模式的變換：在鍍膜前，采集靶中毒的遲滯效應曲線，使進氣流量控制在產生靶中毒的前沿，確保工藝過程始終處于沉積速率陡降前的模式。磁控濺射不起輝的常見原因有哪些，怎么應對？磁控濺射金屬靶時，無法起輝的原因有很多，常見主要原因有：1.靶材安裝準確否?2.靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質，打磨清理干凈后即可。3.起輝電源是否正常------------檢查靶電源。4.靶與地線之間短路----------關掉機器，把設備的濺射靶卸下來，靶附近的零件仔細清洗一下；----------壓靶蓋旋的過緊，沒有和靶材之間留下適當的距離，調整距離即可。5.永磁靶表面場強是否下降太多？---------如果下降太多，需要更換磁鋼。6.起輝濺射真空度與前次的差別？---------更換不同的靶材，起輝壓強不盡相同。換靶材后需要重新調功率匹配器的，只有功率匹配調好了才能正常起輝。

所得靶材組件濺射強度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。實施例4本實施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.9mm；所述靶材表面的硬度為25hv；其中，所述靶材的比較大厚度為24mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結構；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為3°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環形；所述靶材的材質包括鋁；所述背板的材質包括銅。所得靶材組件濺射強度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。實施例5本實施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.82mm；所述靶材表面的硬度為21hv；通常靶材為多晶結構，晶粒大小可由微米到毫米量級。

所述防護層400包括防護層和第二防護層，所述防護層覆蓋所述頂板210底部表面；所述第二防護層覆蓋所述側板220的內側面。所述防護層表面與第二防護層表面相垂直。本實施例中，所述防護層與第二防護層厚度相等。本實施例中，所述防護層與第二防護層為一體成型。在其他實施例中，所述防護層及第二防護層還可以為分體的。本實施例中，所述靶材拋光裝置100還包括：把手，所述把手設置于所述固定板200的外表面上。為便于操作人員雙手抓握，所述把手的數量為兩個，其中一個所述把手設置于所述固定板200的頂部，另一個所述把手設置于所述固定板200的側壁上，該設置方式有利于提高操作人員手持所述靶材拋光裝置100進行拋光作業的便捷性。本實施例中，兩個所述把手分別為把手510和第二把手520，所述把手510設置于所述頂板210上，所述第二把手520設置于所述側板220上。選擇高純、超細粉末作為原料。揚州銅靶材定制

許多用戶在采購靶材時沒有從專業的角度去考慮，下面為大家指出購買靶材時需要注意的事項。無錫TaC靶材工廠

磁控濺射鍍膜中出現膜層不良的表現有哪些，如何改善？ 1.脫膜主要表現：點狀/片狀膜層脫落 原因分析：雜質附著，清洗殘留，真空室臟，臟污、油斑、灰點、口水點， 膜層局部附著不良等。 改善：加強清洗，加強烘烤，環境管控（清潔干燥），對于多層膜系，底層須與基材匹配（吸附力、硬度、熱膨脹）。 2.裂紋/暴膜主要表現： 網狀裂痕/龜裂/起泡脫膜，出爐外觀OK，放置一段時間后爆裂/起泡脫膜。 原因分析：鍍膜過程基材加熱不充分，成膜后及出爐后降溫過快，膜層應力累積， 膜層與基材不匹配，多層膜之間參數不匹配。 改善： 基材充分預熱加熱；增加離子輔助，減小應力；鍍膜緩慢降溫；底層須與基材匹配；多層膜之間參數不突變。 3，色差主要表現：同爐產品顏色不一致 原因分析及改善：靶材分布；布氣；磁場；遮擋。無錫TaC靶材工廠

江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外知名研發機構合作，整合各行業資源優勢，生產出多系列高品質濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供高品質的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好。”的發展理念。