在半導體芯片漏電檢測中，微光顯微鏡為工程師快速鎖定問題位置提供了關鍵支撐。當芯片施加工作偏壓時，設備即刻啟動檢測模式 —— 此時漏電區域因焦耳熱效應會釋放微弱的紅外輻射，即便輻射功率為 1 微瓦，高靈敏度探測器也能捕捉到這一極微弱信號。這種檢測方式的在于，通過熱成像技術將漏電點的紅外輻射轉化為可視化熱圖，再與電路版圖進行疊加分析，可實現漏電點的微米級精確定位。相較于傳統檢測手段，微光設備無需拆解芯片即可完成非接觸式檢測，既避免了對芯片的二次損傷，又能在不干擾正常電路工作的前提下，捕捉到漏電區域的細微熱信號。其內置的圖像分析軟件，可測量亮點尺寸與亮度，為量化評估缺陷嚴重程度提供數據。國內微光顯微鏡方案設計

OBIRCH與EMMI技術在集成電路失效分析領域中扮演著互補的角色，其主要差異體現在檢測原理及應用領域。具體而言，EMMI技術通過光子檢測手段來精確定位漏電或發光故障點，而OBIRCH技術則依賴于激光誘導電阻變化來識別短路或阻值異常區域。這兩種技術通常被整合于同一檢測系統（即PEM系統）中，其中EMMI技術在探測光子發射類缺陷，如漏電流方面表現出色，而OBIRCH技術則對金屬層遮蔽下的短路現象具有更高的敏感度。例如，EMMI技術能夠有效檢測未開封芯片中的失效點，而OBIRCH技術則能有效解決低阻抗（<10 ohm）短路問題。非制冷微光顯微鏡訂制價格晶體管和二極管短路或漏電時，微光顯微鏡依其光子信號判斷故障類型與位置，利于排查電路故障。

在微光顯微鏡（EMMI) 操作過程中，當對樣品施加合適的電壓時，其失效點會由于載流子加速散射或電子-空穴對復合效應而發射特定波長的光子。這些光子經過采集和圖像處理后，可以形成一張信號圖。隨后，取消施加在樣品上的電壓，在未供電的狀態下采集一張背景圖。再通過將信號圖與背景圖進行疊加處理，就可以精確地定位發光點的位置，實現對失效點的精確定位。進一步地，為了提升定位的準確性，可采用多種圖像處理技術進行優化。例如，通過濾波算法去除背景噪聲，增強信號圖的信噪比；利用邊緣檢測技術，突出顯示發光點的邊緣特征，從而提高定位精度。

同時，微光顯微鏡（EMMI）帶來的高效失效分析能力，能大幅縮短研發周期。在新產品研發階段，快速發現并解決失效問題，可避免研發過程中的反復試錯，加快產品從實驗室走向市場的速度。當市場需求瞬息萬變時，更快的研發響應速度意味著企業能搶先推出符合市場需求的產品，搶占市場先機。例如，在當下市場 5G 芯片、AI 芯片等領域，技術迭代速度極快，誰能更早解決研發中的失效難題，誰就能在技術競爭中爭先一步，建立起差異化的競爭優勢。微光顯微鏡能檢測半導體器件微小缺陷和失效點，及時發現隱患，保障設備可靠運行、提升通信質量。

失效分析是指通過系統的檢測、實驗和分析手段，探究產品或器件在設計、生產、使用過程中出現故障、性能異常或失效的根本原因，進而提出改進措施以預防同類問題再次發生的技術過程。它是連接產品問題與解決方案的關鍵環節，**在于精細定位失效根源，而非*關注表面現象。在半導體行業，失效分析具有不可替代的應用價值，貫穿于芯片從研發到量產的全生命周期。

在研發階段，針對原型芯片的失效問題（如邏輯錯誤、漏電、功耗過高等），通過微光顯微鏡、探針臺等設備進行失效點定位，結合電路仿真、材料分析等手段，可追溯至設計缺陷（如布局不合理、時序錯誤）或工藝參數偏差，為芯片設計優化提供直接依據；在量產環節，當出現批量性失效時，失效分析能快速判斷是光刻、蝕刻等制程工藝的穩定性問題，還是原材料（如晶圓、光刻膠）的質量波動，幫助生產線及時調整參數，降低報廢率；在應用端，針對芯片在終端設備（如手機、汽車電子）中出現的可靠性失效（如高溫環境下性能衰減、長期使用后的老化失效），通過環境模擬測試、失效機理分析，可推動芯片在封裝設計、材料選擇上的改進，提升產品在復雜工況下的穩定性。 通過與光譜儀聯用，可分析光子的光譜信息，為判斷缺陷類型提供更多依據，增強分析的全面性。低溫熱微光顯微鏡探測器

我司自研含微光顯微鏡等設備，獲多所高校、科研院所及企業認可使用，性能佳，廣受贊譽。國內微光顯微鏡方案設計

得注意的是，兩種技術均支持對芯片進行正面檢測（從器件有源區一側觀測）與背面檢測（透過硅襯底觀測），可根據芯片結構、封裝形式靈活選擇檢測角度，確保在大范圍掃描中快速鎖定微小失效點（如微米級甚至納米級缺陷）。在實際失效分析流程中，PEM系統先通過EMMI與OBIRCH的協同掃描定位可疑區域，隨后結合去層處理（逐層去除芯片的金屬布線層、介質層等）、掃描電子顯微鏡（SEM）的高分辨率成像以及光學顯微鏡的細節觀察，進一步界定缺陷的物理形態（如金屬線腐蝕、氧化層剝落、晶體管柵極破損等），終追溯失效機理（如電遷移、熱載流子注入、工藝污染等）并完成根因分析。這種“定位-驗證-溯源”的完整閉環，使得PEM系統在半導體器件與集成電路的失效分析領域得到了關鍵的應用。國內微光顯微鏡方案設計