在電子產業中，電激勵與鎖相熱成像系統的結合為電子元件檢測帶來了前所未有的高效解決方案。電激勵的原理是向電子元件施加特定頻率的周期性電流，利用電流通過導體時產生的焦耳效應，使元件內部產生均勻且可控的熱量。當元件存在短路、虛焊、內部裂紋等缺陷時，缺陷區域的熱傳導特性會與正常區域產生明顯差異，進而導致溫度分布出現異常。鎖相熱成像系統憑借其高靈敏度的紅外探測能力和先進的鎖相處理技術，能夠捕捉這些細微的溫度變化，即使是微米級的缺陷也能被清晰識別。與傳統的探針檢測或破壞性檢測方法相比，這種非接觸式的檢測方式無需拆解元件，從根本上避免了對元件的損傷，同時還能實現大批量元件的快速檢測。例如，在手機芯片的批量質檢中，該系統可在幾分鐘內完成數百片芯片的檢測，提升了電子產業質檢環節的效率和產品的可靠性。電激勵的波形選擇（正弦波、方波等）會影響熱信號的特征，鎖相熱成像系統需針對不同波形優化處理算法。熱發射顯微鏡鎖相紅外熱成像系統應用

電子產業的存儲器芯片檢測中，電激勵的鎖相熱成像系統發揮著獨特作用，為保障數據存儲安全提供了有力支持。存儲器芯片如 DRAM、NAND Flash 等，是電子設備中用于存儲數據的關鍵部件，其存儲單元的質量直接決定了數據存儲的可靠性。存儲單元若存在缺陷，如氧化層擊穿、接觸不良等，會導致數據丟失、讀寫錯誤等問題。通過對存儲器芯片施加電激勵，進行讀寫操作，缺陷存儲單元會因電荷存儲異常而產生異常溫度。鎖相熱成像系統能夠定位這些缺陷單元的位置，幫助制造商在生產過程中篩選出合格的存儲器芯片，提高產品的合格率。例如，在檢測固態硬盤中的 NAND Flash 芯片時，系統可以發現存在壞塊的存儲單元區域，這些區域在讀寫操作時溫度明顯升高。通過標記這些壞塊并進行屏蔽處理，能夠有效保障數據存儲的安全，推動電子產業存儲領域的健康發展。Thermal EMMI鎖相紅外熱成像系統訂制價格快速定位相比其他檢測技術，鎖相熱成像技術能夠在短時間內快速定位熱點，縮短失效分析時間。

光束誘導電阻變化（OBIRCH）功能與微光顯微鏡（EMMI）技術常被集成于同一檢測系統，合稱為光發射顯微鏡（PEM，PhotoEmissionMicroscope）。二者在原理與應用上形成巧妙互補，能夠協同應對集成電路中絕大多數失效模式，大幅提升失效分析的全面性與效率。OBIRCH技術的獨特優勢在于，即便失效點被金屬層覆蓋形成“熱點”，其仍能通過光束照射引發的電阻變化特性實現精細檢測——這恰好彌補了EMMI在金屬遮擋區域光信號捕捉受限的不足。

鎖相熱成像系統與電激勵結合，為電子產業的芯片失效分析提供了一種全新的方法，幫助企業快速定位失效原因，改進生產工藝。芯片失效的原因復雜多樣，可能是設計缺陷、材料問題、制造過程中的污染，也可能是使用過程中的靜電損傷、熱疲勞等。傳統的失效分析方法如切片分析、探針測試等，不僅操作復雜、耗時較長，而且可能會破壞失效芯片的原始狀態，難以準確找到失效根源。通過對失效芯片施加特定的電激勵，模擬其失效前的工作狀態，鎖相熱成像系統能夠記錄芯片表面的溫度變化過程，并將其與正常芯片的溫度數據進行對比分析，從而找出失效位置和失效原因。例如，當芯片因靜電損傷而失效時，系統會檢測到芯片的輸入端存在異常的高溫區域；當芯片因熱疲勞失效時，會在芯片的焊接點處發現溫度分布不均的現象。基于這些分析結果，企業可以有針對性地改進生產工藝，減少類似失效問題的發生。鎖相熱紅外電激勵成像系統是由鎖相檢測模塊，紅外成像模塊，電激勵模塊，數據處理與顯示模塊組成。

在當今高科技蓬勃發展的時代，鎖相紅外熱成像系統也成其為“RTTLIT"以其獨特的優勢，正逐漸成為紅外檢測領域的新寵。該系統采用先進的鎖相技術，能夠捕捉目標物體的微小溫度變化，為各行業提供前所未有的熱成像解決方案。鎖相紅外熱成像系統優勢在于其高靈敏度和高分辨率的熱成像能力。無論是在復雜的工業環境中，還是在精密的科研實驗中，該系統都能以超凡的性能，準確快速地識別出熱異常，從而幫助用戶及時發現問題，有效預防潛在風險。
鎖相熱成像系統讓電激勵檢測更具實用價值。紅外光譜鎖相紅外熱成像系統用戶體驗

電激勵與鎖相熱成像系統，電子檢測黃金組合。熱發射顯微鏡鎖相紅外熱成像系統應用

RTTLIT 系統采用了先進的鎖相熱成像（Lock-In Thermography）技術，這是一種通過調制電信號來大幅提升特征分辨率與檢測靈敏度的創新方法。在傳統的熱成像檢測中，由于背景噪聲和熱擴散等因素的影響，往往難以精確檢測到微小的熱異常。而鎖相熱成像技術通過對目標物體施加特定頻率的電激勵，使目標物體產生與激勵頻率相同的熱響應，然后通過鎖相放大器對熱響應信號進行解調，只提取與激勵頻率相關的熱信號，從而有效地抑制了背景噪聲，極大地提高了檢測的靈敏度和分辨率。 熱發射顯微鏡鎖相紅外熱成像系統應用