在光學鏡片研磨這一精細入微的工藝里，溫濕度波動無疑是如影隨形的 “大敵”，對鏡片質量的影響堪稱致命。就研磨設備而言，即便是零點幾攝氏度的細微溫度變化，也會迅速讓研磨盤與鏡片材料的熱膨脹系數差異暴露無遺。這一差異會直接導致鏡片在研磨過程中受力不均，研磨效果參差不齊，鏡片的曲率精度因此大打折扣，進而嚴重影響其光學性能。而當處于高濕度環境時，空氣中彌漫的水汽就像隱匿的破壞者，極易在鏡片表面悄然凝結成水漬。這些水漬會在后續鍍膜工藝中成為棘手難題，極大地干擾鍍膜均勻性，致使鏡片的透過率和抗反射能力雙雙下滑，成品鏡片根本無法契合光學儀器所要求的嚴苛標準。高精密恒溫恒濕潔凈環境的長期穩定運行離不開具有高精度傳感器的恒溫恒濕設備。真空鍍膜機恒溫恒濕機組

在電池的組裝工序中，溫濕度的波動對產品質量和性能的影響不容小覷。溫度一旦發生變化，無論是電池外殼，還是內部各種組件，都會不可避免地產生熱脹冷縮現象。倘若各部件的膨脹或收縮程度存在差異，組裝過程便會困難重重，極易出現縫隙過大或過小的情況。縫隙過大時，電池有漏液風險，這不但會嚴重損害電池性能，還埋下安全隱患；而縫隙過小，則可能致使部件間相互擠壓，破壞電池內部結構。在濕度方面，高濕度環境下，電池組件，尤其是金屬連接件極易受潮生銹。生銹后，其電阻增大，電池導電性能隨之變差，導致電池整體輸出功率降低。重慶0.1℃恒溫恒濕精密環控柜為光刻、干法刻蝕、沉積、表征和其他常見加工設備提供穩定溫濕度、潔凈度、防噪音、抗微震條件。

我司憑借深厚的技術積累，自主研發出高精密控溫技術，精度高達 0.1% 的控制輸出。溫度波動值可實現±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等精密環境控制。該系統潔凈度可實現百級、十級、一級。關鍵區域 ±5mK（靜態）的溫度穩定性，以及均勻性小于 16mK/m 的內部溫度規格，為諸如芯片研發這類對溫度極度敏感的項目，打造了近乎完美的溫場環境，保障實驗數據不受溫度干擾。同時，設備內部濕度穩定性可達±0.5%@8h，壓力穩定性可達+/-3Pa，長達 144h 的連續穩定工作更是讓長時間實驗和制造無后顧之憂。在潔凈度方面，實現百級以上潔凈度控制，工作區潔凈度優于 ISO class3，確保實驗結果的準確性與可靠性，也保障了精密儀器的正常工作和使用壽命。

激光干涉儀以其納米級別的測量精度，在半導體制造、精密機械加工等領域發揮著關鍵作用。然而，它對環境變化極為敏感，溫度、濕度的微小波動以及空氣潔凈度的差異，都可能干擾激光的傳播路徑與干涉效果，致使測量結果出現偏差。精密環控柜的超高精度溫度控制，能將溫度波動控制在極小區間，如關鍵區域 ±2mK（靜態），同時確保濕度穩定性可達 ±0.5%@8h，并且實現百級以上潔凈度控制，為激光干涉儀提供穩定、潔凈的測量環境，保障其測量精度不受外界因素干擾。光譜分析儀用于分析物質的光譜特性，廣泛應用于半導體材料檢測、化學分析等領域。在工作時，外界環境的不穩定可能導致儀器內部光學元件的性能變化，影響光譜的采集與分析精度。精密環控柜通過調控溫濕度，避免因溫度變化使光學元件熱脹冷縮產生變形，以及因濕度異常造成的鏡片霉變、光路散射等問題。其穩定的環境控制能力，保證光譜分析儀能夠準確、可靠地分析物質光譜，為科研與生產提供數據支持。主要由設備主柜體、控制系統、氣流循環系統、潔凈過濾器、制冷(熱)系統、照明系統、局部氣浴等組成。

數據可視化與便捷管理是設備亮點。設備自動生成數據曲線，如同設備運行 “心電圖”，便于客戶隨時查看設備運行狀態。數據自動保存，可隨時以表格的形式導出，方便客戶進行數據分析和處理。運行狀態、故障狀態等事件同步記錄，查詢一目了然，讓客戶對設備狀態了如指掌。設備采用可拆卸鋁合金框架，大型設備可現場組裝，靈活便捷，減少運輸壓力，方便不同環境使用運行。箱體采用高質量鈑金材質，美觀大方，可根據客戶需求定制外觀顏色，滿足客戶的個性化需求。其控制系統精細處理循環氣流各環節，確保柜內溫濕度的超高精度控制。北京電子元器件恒溫恒濕

精密環控柜為我司自主研發的精密環境控制產品。真空鍍膜機恒溫恒濕機組

電子萬能試驗機，作為材料力學性能測試設備，在金屬材料研發、塑料制品質量檢測等眾多領域廣泛應用。它能夠開展材料拉伸、壓縮、彎曲等力學性能測試，為產品質量把控與材料特性研究提供關鍵數據支撐。然而，環境溫濕度的波動對其影響極大。溫度波動時，試驗機力傳感器的精度首先受到沖擊，測量的力值出現偏差，同時還會改變材料自身的力學性能，例如金屬在高溫下屈服強度降低，導致測試結果無法真實反映材料特性。濕度波動時，試驗機的夾具、傳動部件極易生銹腐蝕，致使對試樣的夾持穩定性大打折扣，加載均勻性也難以保證，進一步降低測試精度。真空鍍膜機恒溫恒濕機組