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雙光子3D打印技術

來源: 發布時間:2022-08-05

世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合,從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制,自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點,您可以進行幾乎任何形狀,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創新設計。Nanoscribe公司于2018年底推出了全新的微納3D打印系統。雙光子3D打印技術

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。PhotonicProfessionalGT2系統可以實現精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。雙光子3D打印技術微納米3D打印系統基于新型的面投影微光刻技術原理設計而成,能實現多材料的微納尺度材料三維打印。

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事實上,雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的,其先驅者是東京大阪大學的Kawata教授以及孫洪波教授。當時這個實驗室在nature上發表的一篇工作,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動:《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作,這兩位教授做出了當時世界上特別小的彈簧振子,其加工分辨率達到了120nm,超越了衍射極限,同時還沒有使用諸如近場加工之類的不太通用的解決方案,而是單純的利用了材料的性質。

Nanoscribe公司成立于2007年,總部位于德國卡爾斯魯厄,秉持著卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的技術背景的德國卡爾蔡司公司的支持,經過十幾年的不斷研究和成長,已然成為微納米生產的帶領者,一直致力于推動諸如力學超材料,微納機器人,再生醫學工程,微光學等創新領域的研究和發展,并提供優化制程方案。如今,Nanoscribe客戶遍布全球30個國家,超過1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統。這些大學包含哈佛大學、加州理工學院、牛津大學、倫敦帝國理工學院和蘇黎世聯邦理工學院等等。為了拓展并加強中國及亞太地區的銷售推廣和售后服務范圍,Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨資子公司-納糯三維科技(上海)有限公司。自Nanoscribe進軍中國市場以來,已有20多家出名大學和研究所成為了Nanoscribe用戶,其中包括多所C9前列高校聯盟成員,例如:北京大學,復旦大學,南京大學等等。長遠來看,3D打印會顛覆傳統制造,實現服務的規模化,屬于產業顛覆。

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Nanoscribe首屆線上用戶大會于九月順利召開,在微流控研究中,通常在針對微流控器件和芯片的快速成型制作中會結合不同制造方法。亞琛工業大學(RWTHUniversityofAachen)和不來梅大學(UniversityofBremen)的研究小組提出將三維結構的芯片結構打印到預制微納通道中。生命科學研究的驅動力是三維打印模擬人類細胞形狀和大小的支架,以推動細胞培養和組織工程學。丹麥技術大學(DTU)和德國于利希研究中心的研究團隊展示了他們的成就,并強調了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性。在微納光學和光子學研究中,布魯塞爾自由大學的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導等解決方案。阿卜杜拉國王科技大學的研究團隊3D打印了一個超小型單纖光鑷,以實現集成微納光學系統。連接處理是光子集成研究的挑戰。正如明斯特大學(WWU)研究人員所示,Nanoscribe微納加工技術正在驅動研究用于集成納米多孔電路的混合接口方法。麻省理工學院(MIT)的科學家們正在使用Nanoscribe的2PP技術制造用于高密度集成光子學的光學自由形式耦合器。微納尺度3D打印能批量復制微小結構,制造出真正處于微觀級別的器件,實現了一般3D打印無法企及的精度。湖北微納光刻3D打印多少錢

微納米3D打印公司Nanoscribe,納米精度的樹脂新材料,打印微創手術用的微型針頭,微透鏡精密器件。雙光子3D打印技術

QuantumXshape技術特點概要:快速原型制作,高精度,高設計自由度,簡易明了的工程流程;工業驗證的晶圓級批量生產;200個標準結構的通宵產量;通用及專門使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。雙光子3D打印技術

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