德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的排名在前的開發商，也是BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D打印機，用于制造微納米級的精細結構。據該公司稱，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產品線，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(MEMS)應用的精度、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結構，在面積達25cm2的區域上都具有亞微米級精度、增材制造輪能夠針對不同的應用場景進行優化設計。湖北實驗室增材制造Quantum X shape

Nanoscribe在2021年6月30日推出了頭一個用于熔融石英玻璃微結構的3D微加工商用高精度增材制造工藝和材料——GlassPrintingExplorerSet。新型光樹脂GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心，與Glassomer聯合研究開發。據說這是目前只有一種用于熔融石英玻璃微細加工的光樹脂，因為高光學透明度以及出色的熱、機械和化學性能脫穎而出，為探索生命科學、微流體、微光學、材料工程和其他微技術領域的新應用開辟了機會。GlassPrintingExplorerSet能夠高精度3D打印，并且具有耐高溫性、機械和化學穩定性以及光學透明度。熔融石英玻璃的雙光子聚合(2PP)技術展現了玻璃產品的出色性能，推動了對生命科學、微流體、微光學和其他領域的探索。瑞士弗里堡工程與建筑學院助理教授兼圖形打印系主任NicolasMuller稱，GP-Silica研究制造復雜微流體系統方面具有巨大潛力，盡管所需的熱后處理要求很高。廣東實驗室增材制造設備增材制造技術已經應用于多個領域，譬如航天、新材料、先進制造。

如今，金屬增材制造正在急劇地改變產品制造的方式。傳統的制造是將完整的金屬材料用數控機床來進行減材加工，后續得到實體零件，其過程去除了大量的材料；而金屬增材制造是使用三維數字模型直接打印產品的一種生產方式，將金屬粉末材料，按照燒結、熔融、噴射等方式逐層堆積，制造出實體物品。增材制造與傳統制造有著巨大的不同，簡化后的生產方式突破傳統結構設計的限制，將生產復雜結構與優化產品性能成為可能。這提升了廠家的生產彈性、縮短生產周期，并將真正的創新思維帶入產品之中。有了增材制造技術，過去只存在于想象中、被視為不可能生產的各種產品，終于能夠被實現。

Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫學設備的原型制作。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調整SMF的模式場，以匹配光子芯片上光波導模式場。Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。增材制造可實現復雜結構的快速制造。

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的中心是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。另外，Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術要點，這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到精細同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。3D打印技術正在改變制造業。廣東實驗室增材制造設備

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高.湖北實驗室增材制造Quantum X shape