NanoscribeQuantumXalign作為前列的3D打印系統具備了A2PL®對準雙光子光刻技術，可實現在光纖和光子芯片上的納米級精確對準。全新灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®在實現優異的打印質量同時兼顧打印速度，適用于微光學制造和光子封裝領域。3Dprintingby2GL®將Nanoscribe的灰度技術推向了三維層面。整個打印過程在最高速度掃描的同時實現實時動態調制激光功率。這使得聚合的體素得到精確尺寸調整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟，不產生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學表面的任意3D打印設計的真實完美形狀。Nanoscribe于2018年推出了用于微加工和無掩模光刻的Photonic Professional GT2 微納3D打印。徐匯區芯片上微納3D打印哪家強

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造專業人才，一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。作為基于雙光子聚合技術（2PP）的微納加工領域市場帶領者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體。基于2PP微納加工技術方面的專業知識，Nanoscribe為頂端科學研究和工業創新提供強大的技術支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展。“我們非常期待加入CELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。楊浦區生物微納3D打印銷售廠家更多關于Nanoscribe微納米3D打印的內容，請致電Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司。

高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創新設計。另外，Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀你一起探討3D打印的技術和應用。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產母版工具。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀你一起探討微納3D打印未來的發展趨勢。嘉定區工業微納3D打印廠家

微納米3D打印公司Nanoscribe，納米精度的樹脂新材料，打印微創手術用的微型針頭，微透鏡精密器件。徐匯區芯片上微納3D打印哪家強

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。高速3D微納加工系統QuantumXshape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果，同時還離不開工業級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調制速率動態調整激光功率。徐匯區芯片上微納3D打印哪家強