作為基于雙光子聚合技術（2PP）的微細加工領域市場帶領者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體。“我們為我們擁有特別先進的2PP技術而感到自豪，憑借我們的技術支持，我們的客戶實現了一個又一個突破性創新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司，與客戶保持良好密切的合作關系是我們保持優于市場地位的關鍵”Nanoscribe聯合創始人兼首席執行官MartinHermatschweiler表示。基于2PP微納加工技術方面的專業知識，Nanoscribe為前列科學研究和工業創新提供強大的技術支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展。“我們非常期待加入CELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”MartinHermatschweiler說道。無掩膜光刻技術具有廣泛的應用前景。上海2PP無掩膜光刻3D微納加工

Nanoscribe公司推出針對微光學元件（如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數的特性，這些特性對于3D微納加工創新微光學元件設計尤為重要，尤其是在沒有旋轉對稱性和復合三維光學系統的情況下。由于在紅外區域吸收率不高，因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優先，同時也是光通訊、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現具有高精度形狀精度的創新微光學設計，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度。由于其光學特性，高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用，例如光電應用中，他們可以增加顯示設備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外，這些材料在3D微納加工技術應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件。例如圖示中可應用于微型成像系統，內窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡。上海超高速無掩膜光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子無掩模光刻技術。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現不同參數的創新3D結構的制作。微米級增材制造能夠突破傳統微納光學設計的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能，可以輕松實現球形，非球形，自由曲面或復雜3D微納光學元件制作，并具備出色的光學質量表面和形狀精度。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現不同參數的創新3D結構的制作。微米級增材制造能夠突破傳統微納光學設計的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能，可以輕松實現球形，非球形，自由曲面或復雜3D微納光學元件制作，并具備出色的光學質量表面和形狀精度無掩膜光刻系統未來發展前景如何，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

多年來，Nanoscribe在微觀和納米領域一直非常出色，并且參與了很多3D打印的項目，包括等離子體技術、微光學等工業微加工相關項目。如今，Nanoscribe正在與美因茲大學和帕德博恩大學在內的其他行業帶領機構一起開發頻率和功率穩定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年，名為Miliquant，由德國聯邦教育和研究部（簡稱BMBF）提供資助。他們的研發成果——3D打印光源組件，將用于量子技術創新，并可以應用在醫療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發團隊將開展多項實驗，開發工業傳感器和成像系統，這就需要復雜的研發工作，還需要開發可靠的組件，以及組裝和制造的新方法。Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統可以實現微機械元件的制作。上海2PP無掩膜光刻3D微納加工

無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術。上海2PP無掩膜光刻3D微納加工

Nanoscribe首屆線上用戶大會于九月順利召開，在微流控研究中，通常在針對微流控器件和芯片的快速成型制作中會結合不同制造方法。亞琛工業大學（RWTHUniversityofAachen）和不來梅大學（UniversityofBremen）的研究小組提出將三維結構的芯片結構打印到預制微納通道中。生命科學研究的驅動力是三維打印模擬人類細胞形狀和大小的支架，以推動細胞培養和組織工程學。丹麥技術大學(DTU)和德國于利希研究中心的研究團隊展示了他們的成就，并強調了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性。在微納光學和光子學研究中，布魯塞爾自由大學的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導等解決方案。阿卜杜拉國王科技大學的研究團隊3D打印了一個超小型單纖光鑷，以實現集成微納光學系統。連接處理是光子集成研究的挑戰。正如明斯特大學（WWU）研究人員所示，Nanoscribe微納加工技術正在驅動研究用于集成納米多孔電路的混合接口方法。麻省理工學院（MIT）的科學家們正在使用Nanoscribe的2PP技術制造用于高密度集成光子學的光學自由形式耦合器。上海2PP無掩膜光刻3D微納加工