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江蘇雙光子灰度光刻3D微納加工

來源: 發布時間:2025-07-06

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點,同時縮短創新微納光學器件(如衍射和折射光學器件)的整體制造時間。另外,QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作灰度光刻技術可以實現高分辨率的微納米結構制造,滿足日益增長的微電子和光電子器件對精確結構的需求。江蘇雙光子灰度光刻3D微納加工

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Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結構上,可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案江蘇雙光子灰度光刻3D微納加工Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解微納3D打印和灰度光刻技術的區別。

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Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的子公司,開發并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是:“我們讓小物件變得重要”,公司創始人開發出一種技術,對智能手機、手持設備和醫療技術領域至關重要的3D打印產品。通過基于雙光子聚合(2PP)的3D打印機投入市場,他們已經為全球的大學和新興行業提供了新的解決方案,致力于3D微打印生命科學研究以及納米級3D打印光學,甚至利用他們的技術來開發創新的設備,例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,克服了這些限制,提供了前所未有的設計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。“納米標記系統基于雙光子吸收,這是一種分子被激發到更高能態的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體,使用含有單體和雙光子活性光引發劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體,其中吸收的光的強度非常高。

NanoscribeQuantumX平臺系統的超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。已滿足高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代,打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業生產上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術要點在于:這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到精細同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您解析雙光子灰度光刻技術。

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我們往往需要通過灰度光刻的方式來實現微透鏡陣列結構,灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版(掩膜接觸式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透,而某些區域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構(如下圖4所示,八邊金字塔結構)。微透鏡陣列也是類似,可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態。需要注意,灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多,約為Ra=100nm,前兩者可以會的Ra=50nm的球面。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您講解高速灰度光刻微納加工打印系統。江蘇雙光子灰度光刻3D微納加工

制備各種復雜的微納米結構,滿足不同應用領域的需求。江蘇雙光子灰度光刻3D微納加工

Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結構上,可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。歡迎咨詢江蘇雙光子灰度光刻3D微納加工

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