雖然半導體行業一直在使用3D打印技術，我們可能會有一個疑問，為什么我們沒有聽說，一個因素是競爭。如果全球只有四個龐大的大型公司，它們構成了光刻或制造機器的主要部分，那么這些公司并沒有告訴外界關于他們應用3D打印技術的內幕，因為他們想確保的競爭優勢。至少，對外界揭示其優化設備性能的技術，這種主觀動機并不強。增材制造改善半導體工藝是多方面的，從輕量化，到隨形冷卻,再到結構一體化實現，根據3D科學谷的市場觀察，增材制造使得半導體設備中的零件性能邁向了一個新的進化時代！在許多情況下，3D打印-增材制造可能使這些系統能夠更接近理論上預期的工作環境，而不是在機器操作上做出妥協。3D打印帶來的直接好處包括更高的精度、更高的生產能力、更快的周期時間，甚至使得每臺機器每周生產更多的晶圓。某些情況下，還將看到整個晶片的成像質量更高。這將意味著更少的浪費和更高質量的產品。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您淺析增材制造技術在制造業中的特點與應用。上海實驗室增材制造工藝

Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫學設備的原型制作。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩健耦合這個難題。湖北微納米增材制造無掩膜激光直寫增材制造可實現復雜結構的快速制造。

增材制造（AdditiveManufacturing，AM）俗稱3D打印，融合了計算機輔助設計、材料加工與成型技術、以數字模型文件為基礎，通過軟件與數控系統將專門使用的金屬材料、非金屬材料以及醫用生物材料，按照擠壓、燒結、熔融、光固化、噴射等方式逐層堆積，制造出實體物品的制造技術。相對于傳統的、對原材料去除－切削、組裝的加工模式不同，是一種“自下而上”通過材料累加的制造方法，從無到有。這使得過去受到傳統制造方式的約束，而無法實現的復雜結構件制造變為可能。近二十年來，AM技術取得了快速的發展，“快速原型制造（RapidPrototyping）”、“三維打印(3DPrinting)”、“實體自由制造(SolidFree-formFabrication)”之類各異的叫法分別從不同側面表達了這一技術的特點。

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的中心是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。另外，Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術要點，這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到精細同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。如需了解增材制造技術的應用場景請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。

如今，金屬增材制造正在急劇地改變產品制造的方式。傳統的制造是將完整的金屬材料用數控機床來進行減材加工，后續得到實體零件，其過程去除了大量的材料；而金屬增材制造是使用三維數字模型直接打印產品的一種生產方式，將金屬粉末材料，按照燒結、熔融、噴射等方式逐層堆積，制造出實體物品。增材制造與傳統制造有著巨大的不同，簡化后的生產方式突破傳統結構設計的限制，將生產復雜結構與優化產品性能成為可能。這提升了廠家的生產彈性、縮短生產周期，并將真正的創新思維帶入產品之中。有了增材制造技術，過去只存在于想象中、被視為不可能生產的各種產品，終于能夠被實現。增材制造技術可用于快速原型制造和生產。上海實驗室增材制造工藝

如需了解增材制造技術的信息，請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。上海實驗室增材制造工藝

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產母版工具。上海實驗室增材制造工藝