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北京Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫

來源: 發布時間:2025-07-28

雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件,可以直接作為原型使用,也可以作為批量生產母版工具。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。Quantum X是全球頭一臺灰度光刻激光直寫系統。北京Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫

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Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代,打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業生產上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發布了全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統QuantumX,并榮獲創新獎。該系統是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術(2GL?)的精密加工微納米打印系統,可應用于折射和衍射微光學。該系統的面世表示著Nanoscribe已進軍現代微加工工業領域。具有全自動化系統的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業需求。江蘇2PP灰度光刻三維微納米加工系統Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討雙光子灰度光刻系統。

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作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點,同時縮短創新微納光學器件(如衍射和折射光學器件)的整體制造時間。另外,QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。

Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的子公司,開發并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是:“我們讓小物件變得重要”,公司創始人開發出一種技術,對智能手機、手持設備和醫療技術領域至關重要的3D打印產品。通過基于雙光子聚合(2PP)的3D打印機投入市場,他們已經為全球的大學和新興行業提供了新的解決方案,致力于3D微打印生命科學研究以及納米級3D打印光學,甚至利用他們的技術來開發創新的設備,例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,克服了這些限制,提供了前所未有的設計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。“納米標記系統基于雙光子吸收,這是一種分子被激發到更高能態的過程。灰度光刻技術具有高精度、高效率的特點。

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基于雙光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術,Nanoscribe認為直接激光寫入系統是微加工的比較好選擇幾乎任何,在面積達25cm2的區域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯合創始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,該公司正在通過其新機器為科學和工業用途的晶圓級高精度微制造設定新標準。“雖然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實驗室和工業中的快速原型制作和批量生產。”。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統Quantum X。德國高分辨率灰度光刻系統

雙光子灰度光刻技術多強大,如需了解詳情請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。北京Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的子公司,開發并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是:“我們讓小物件變得重要”,公司創始人開發出一種技術,對智能手機、手持設備和醫療技術領域至關重要的3D打印產品。通過基于雙光子聚合(2PP)的3D打印機投入市場,他們已經為全球的大學和新興行業提供了新的解決方案,致力于3D微打印生命科學研究以及納米級3D打印光學,甚至利用他們的技術來開發創新的設備,例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,克服了這些限制,提供了前所未有的設計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。北京Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫

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