Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究?jī)x器和多用戶設(shè)施。

Photonic Professional GT2設(shè)備是將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點(diǎn)與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合。黑龍江微納米雙光子聚合無掩光刻

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)В稍谝婚_始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè)，并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像。黑龍江微納米雙光子聚合無掩光刻雙光子聚合與傳統(tǒng)的單光子聚合技術(shù)有什么區(qū)別？

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型。基于雙光子聚合技術(shù)，該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型，同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑，同時(shí)保持高精度的形狀控制。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實(shí)現(xiàn)通過簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量。總而言之，工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝，適用于晶圓級(jí)批量加工。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時(shí)還離不開工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。歡迎咨詢雙光子聚合技術(shù)（2PP）是一種“納米光學(xué)”3D打印方法。

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）。文章中介紹了高精度3D打印，并重點(diǎn)講解了先進(jìn)的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程，實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性

雙光子聚合激光直寫技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)別的加工精度，比傳統(tǒng)的納米加工技術(shù)更加精細(xì)。黑龍江微納米雙光子聚合無掩光刻

雙光子聚合的打印技術(shù)和方法有哪些？黑龍江微納米雙光子聚合無掩光刻

在當(dāng)前科技快速發(fā)展的時(shí)代，各種新技術(shù)層出不窮。其中，雙光子聚合技術(shù)以其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)和應(yīng)用前景，正在引起越來越多的關(guān)注。雙光子聚合是物質(zhì)在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程，它有著更多的應(yīng)用前景，包括快速3D打印、光子晶體形成、高精度光子器件制造等領(lǐng)域。雙光子聚合技術(shù)的優(yōu)勢(shì)：1. 高精度和高分辨率：雙光子聚合技術(shù)采用光子作為加工單位，具有超高的精度和分辨率。與傳統(tǒng)的加工技術(shù)相比，雙光子聚合技術(shù)可以制造出更加精細(xì)、復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，從而實(shí)現(xiàn)更高級(jí)別的光學(xué)器件和制造工藝。2. 快速和高效：雙光子聚合技術(shù)可以在短時(shí)間內(nèi)完成大量材料的加工和制備。由于其高精度和高分辨率的特點(diǎn)，使得制造過程更加快速和高效。這不僅縮短了產(chǎn)品的研發(fā)周期，還能滿足工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)的需求。3. 高度靈活性和可擴(kuò)展性：雙光子聚合技術(shù)具有高度靈活性和可擴(kuò)展性，可以在不同材料和表面上應(yīng)用。這種技術(shù)不僅可以用于玻璃、塑料等常見材料的加工，還可以應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。這意味著雙光子聚合技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域非常多，可以為不同行業(yè)提供定制化的解決方案。黑龍江微納米雙光子聚合無掩光刻