上海泰晟與您分享半導體行業用FM4910認證PVC

來源：發布時間：2025-04-24

泰晟供三菱PVC板與您分享CVD設備在半導體中的應用

化學氣相沉積（CVD）是利用氣相化合物或含有薄膜元素的簡單物質在基體表面發生化學反應形成薄膜涂層的技術。化學氣相沉積（CVD）是制備高性能薄膜的一項重要技術，它具有均勻性好、薄膜覆蓋率高、薄膜質量好、涂層純度可控、混合涂層、基體復雜、涂層粉末、大氣壓或真空條件等特點，而低溫合成化學氣相沉積（CVD）技術的材料可以是氣相化合物或單質，也可以是幾種氣相化合物或單質混合物。常見的材料主要有金屬、合金、碳化物、硅化物、氮化物、氧化物、硫化物、硼化物等。有很多種材料可以使用。化學氣相沉積技術可廣闊應用于集成電路、半導離體、金屬精煉、光伏電池、高科技陶瓷等制造領域，其中集成電路和半導體是主要的應用領域，化學氣相沉積可分為大氣壓化學氣相沉積（APCVD）、亞大氣壓化學氣相沉積（sacvd）、低壓化學氣相沉積（LPCVD）、超高真空化學氣相沉積（uhcvd）、快速熱化學氣相沉積（RTCVD）、等子體增強化學氣相沉積（PECVD）、高密度等離子體化學氣相沉積（HDPCVD）、金屬有機化合物化學氣相沉積（MOCVD）等，PECVD是應用非常廣的化學氣相沉積技術，在成膜速度、臺階覆蓋率、間隙填充、溫度要求等方面綜合性能突出，隨著我國集成電路和半導體工業的迅速發展，其市場占比達到36%左右，規模在擴大，技術在進步。薄膜沉積相關設備的需求正在迅速增長。化學氣相沉積是集成電路和半導體領域應用非常廣闊的薄膜沉積技術。因此，我國對CVD設備的需求正在迅速上升。在此背景下，我國CVD裝備制造企業開始增多，代表性企業主要有北華創、沈陽拓景、捷佳偉創、無錫松宇等，我國CVD裝備產業技術實力薄弱，市場占比低，而外資企業占據主導地位。

業內人士分析，隨著物聯網、人工智能、工業自動化的日益普及，我國集成電路、半導體產業仍在蓬勃發展，對化學氣相沉積技術的需求將繼續增長。CVD設備產業發展前景良好。現階段，我國CVD設備市場主要被國外企業占領。在未來的發展中，我國企業需要不斷提高自己的競爭力，以實現本土化替代。

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