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江蘇自動(dòng)化超快激光玻璃晶圓切割設(shè)備產(chǎn)品介紹

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-05-28

說(shuō)到搭積木首先咱們得有基本的積木塊塊,而芯片的“積木”就是晶元了。晶元其實(shí)就是高純度的硅切片。首先,為了得到高純度的硅,將硅石(二氧化硅,也就是沙子)通過(guò)氧化還原反應(yīng),還原成硅,并通過(guò)各種化學(xué)提純手段,去除硅里面雜質(zhì),這時(shí)硅的純度可以達(dá)到99.99%。激光劃片是利用高能激光束照射工件表面,使被照射區(qū)域局部熔化、氣化,從而達(dá)到去除材料,實(shí)現(xiàn)劃片的過(guò)程。激光劃片是非接觸式加工,無(wú)機(jī)械應(yīng)力損傷,加工方式靈活,不存在刀具損耗和水污染,設(shè)備使用維護(hù)成本低。為避免激光劃透晶圓時(shí)損傷支撐膜,采用耐高溫?zé)g的 UV 膜無(wú)錫的超快激光玻璃晶圓切割設(shè)備定做廠家。江蘇自動(dòng)化超快激光玻璃晶圓切割設(shè)備產(chǎn)品介紹

芯片制造的工藝復(fù)雜、流程眾多,而晶圓切割就是半導(dǎo)體封測(cè)工藝中不可或缺的一道工序,晶圓切割就是將單一晶圓進(jìn)行切割制作成一個(gè)個(gè)晶粒單元,但由于晶粒本身比較脆弱、相互之間距離小,并且切割時(shí)還需要注意晶粒不被污染、避免出現(xiàn)崩塌或者裂痕現(xiàn)象,因此晶圓切割對(duì)于技術(shù)和切割設(shè)備的要求都極高。在晶圓切割過(guò)程中,通常要用到的一項(xiàng)精密切割設(shè)備就是晶圓切割機(jī),晶圓切割機(jī)可使安裝在主軸上的砥石高速旋轉(zhuǎn),從而切斷硅晶圓。近幾年,隨著激光技術(shù)的發(fā)展,激光切割機(jī)逐漸成為了芯片制作領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。由于激光切割為非接觸式加工過(guò)程,其不僅切割精度高、效率高,而且可以避免對(duì)晶體硅表面造成損傷,大幅提升芯片生產(chǎn)制造的質(zhì)量和效率。江蘇自動(dòng)化超快激光玻璃晶圓切割設(shè)備產(chǎn)品介紹超快激光玻璃晶圓切割設(shè)備有什么特點(diǎn)?無(wú)錫超通智能告訴您。

激光隱形切割是激光切割晶片的一種方案,很好地避免了砂輪雕刻的問(wèn)題。如圖1所示,激光隱身切割將脈沖激光的單脈沖通過(guò)光學(xué)成型,通過(guò)材料表面聚焦于材料內(nèi)部,聚焦區(qū)域能量密度高,形成多光子吸收非線性吸收效應(yīng),導(dǎo)致材料變形出現(xiàn)裂紋。各激光脈沖等距作用可以形成等距損傷,在材料內(nèi)部形成變質(zhì)層。在變質(zhì)層中,材料的分子結(jié)合被破壞,材料的連接減弱,容易分離。切割完成后,通過(guò)拉伸軸承膜完全分離產(chǎn)品,并在芯片和芯片之間形成間隙。這種加工方式避免了機(jī)器的直接接觸和純凈水現(xiàn)象造成的破壞。目前,激光隱身切割技術(shù)可應(yīng)用于藍(lán)寶石/玻璃/硅及多種化合物半導(dǎo)體晶圓。

激光隱形切割是一種全新的激光切割工藝,具有切割速度快、切割不產(chǎn)生粉塵、無(wú)切割基材耗損、所需切割道小、完全干制程等諸多優(yōu)勢(shì)。激光隱形切割**早起源于激光內(nèi)雕,其原理是將短脈沖激光光束透過(guò)材料表面聚焦在材料中間,由于短脈沖激光瞬時(shí)能量極高,在材料中間形成小的變質(zhì)點(diǎn)。將激光在聚焦在物質(zhì)內(nèi)部應(yīng)用到切割領(lǐng)域,由日本的光學(xué)**企業(yè)濱松光學(xué)率先發(fā)明了隱形切割(steal dicing),多年來(lái)濱松一直持有這項(xiàng)技術(shù)的多項(xiàng)**。幾年前德龍激光通過(guò)**技術(shù)團(tuán)隊(duì)技術(shù)攻關(guān),成功研發(fā)出了區(qū)別于濱松光學(xué)的隱形切割技術(shù),并申請(qǐng)了自己的**,并將該技術(shù)應(yīng)用于藍(lán)寶石、玻璃、硅、SiC等多種材料的切割。隱切切割主要原理是將短脈沖激光光束透過(guò)材料表面聚焦在材料中間,在材料中間形成改質(zhì)層,然后通過(guò)外部施加壓力使芯片分開(kāi)無(wú)錫超通智能超快激光玻璃晶圓切割設(shè)備品質(zhì)保障。

硅作為第三代半導(dǎo)體材料,一直受到業(yè)界追捧,可材料始終是材料,就好比礦,沒(méi)有復(fù)雜的工藝處理,他就是一堆石頭,那半導(dǎo)體材料這樣偏精細(xì)的物質(zhì),那自然得有一套成熟的工藝,那首要的就是晶圓的加工。我們常用的半導(dǎo)體材料精細(xì),成本高,而且刀片劃片容易產(chǎn)生圓晶破損和刀具損壞,刀具還要頻繁的更換,后期運(yùn)行成本高。激光劃片屬于無(wú)接觸式加工,對(duì)圓晶損傷小,聚焦的優(yōu)點(diǎn)更是在晶圓的微處理上更具優(yōu)越性等更適用于圓晶劃片處理。無(wú)錫超通智能超快激光玻璃晶圓切割設(shè)備誠(chéng)信經(jīng)營(yíng)。重慶自主研發(fā)超快激光玻璃晶圓切割設(shè)備哪家強(qiáng)

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碳化硅是ⅠⅤ-ⅠⅤ族二元化合物半導(dǎo)體,具有很強(qiáng)的離子共價(jià)鍵,結(jié)合能量穩(wěn)定,具有優(yōu)越的力學(xué)、化學(xué)性能。材料帶隙即禁帶能量決定了器件很多性能,包括光譜響應(yīng)、抗輻射、工作溫度、擊穿電壓等,碳化硅禁帶寬度大。如**常用的 4H-SiC禁帶能量是 3.23 eV,因此,具有良好的紫外光譜響應(yīng)特性,被用于制作紫外光電二極管。SiC 臨界擊穿電場(chǎng)比常用半導(dǎo)體硅和砷化鎵大很多,其制作的器件具有很好的耐高壓特性。另外,擊穿電場(chǎng)和熱導(dǎo)率決定器件的最大功率傳輸能力,SiC 熱導(dǎo)率高達(dá) 5 W/(cm·K),比許多金屬還要高,因此非常適合做高溫、大功率器件和電路。碳化硅熱穩(wěn)定性很好,可以工作在 300~600 ℃。碳化硅硬度高,耐磨性好,常用來(lái)研磨或切割其它材料,這就意味著碳化硅襯底的劃切非常棘手。江蘇自動(dòng)化超快激光玻璃晶圓切割設(shè)備產(chǎn)品介紹

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