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  • 陜西厚膜光刻膠報價
    陜西厚膜光刻膠報價

    厚板光刻膠 電路板制造:在制作對線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時,厚板光刻膠可確保線路的精細度和穩定性,比如汽車電子、工業控制等領域的電路板,能承受復雜環境和大電流、高電壓等工況。 功率器件制造:像絕緣柵雙極晶體管(IGBT)這類功率器件,需要承受高電壓和大電流,厚板光刻膠可用于其芯片制造過程中的光刻環節,保障芯片內部電路的精細布局,提高器件的性能和可靠性。 負性光刻膠 半導體制造:在芯片制造過程中,用于制作一些對精度要求高、圖形面積較大的結構,如芯片的金屬互連層、接觸孔等。通過負性光刻膠的曝光和顯影工藝,能實現精確的圖形轉移,...

    2025-06-18
  • 大連PCB光刻膠生產廠家
    大連PCB光刻膠生產廠家

    吉田半導體突破光刻膠共性難題,提升行業生產效率,通過優化材料配方與工藝,吉田半導體解決光刻膠留膜率低、蝕刻損傷等共性問題,助力客戶降本增效。 針對傳統光刻膠留膜率低、蝕刻損傷嚴重等問題,吉田半導體研發的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產品高 8%,密集圖形側壁垂直度達標率提升 15%。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯技術,在顯影過程中減少有機溶劑對有機半導體的損傷,使芯片良率提升至 99.8%。這些技術突破有效降低客戶生產成本,推動行業生產效率提升。吉田質量管控與認證壁壘。大連PCB光刻膠生產廠家 不同光刻膠類型的適用場景對比 類型 波長范圍 分辨率 典型應用產品 G線...

    2025-06-18
  • 西安阻焊光刻膠生產廠家
    西安阻焊光刻膠生產廠家

    吉田半導體獲評 "專精特新" 企業,行業技術標準,以技術創新與標準化生產為,吉田半導體榮獲 "廣東省專精特新企業" 稱號,樹立行業。 憑借在光刻膠領域的表現,吉田半導體獲評 "廣東省專精特新企業"" ",承擔多項國家 02 專項課題。公司主導制定《半導體光刻膠用樹脂技術規范》等行業標準,推動國產材料標準化進程。未來,吉田半導體將繼續以" 中國半導體材料方案提供商 "為愿景,深化技術研發與市場拓展,為全球半導體產業發展貢獻" 中國力量 "。水性感光膠推薦吉田 JT-1200,水油兼容配方,鋼片加工精度 ±5μm!西安阻焊光刻膠生產廠家 差異化競爭策略 在高級市場(如ArF浸沒式光刻...

    2025-06-18
  • 四川LCD光刻膠報價
    四川LCD光刻膠報價

    廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品,各有特性與優勢,適用于不同領域。 厚板光刻膠 JT - 3001:具有優異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標準,保質期 1 年,適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景,如一些特殊的電路板制造。 SU - 3 負性光刻膠:分辨率優異,對比度良好,曝光靈敏度高,光源適應。重量為 100g,常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域。 液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000:有 1L 和 100g 兩種規格,具有優異的分辨率,準確性和穩定性好。主要應用于液晶平板顯示器的制造,能...

    2025-06-18
  • 東莞激光光刻膠品牌
    東莞激光光刻膠品牌

    技術挑戰與發展趨勢 更高分辨率需求: ? EUV光刻膠需解決“線邊緣粗糙度(LER)”問題(目標<5nm),通過納米顆粒分散技術或新型聚合物設計改善。 缺陷控制: ? 半導體級正性膠要求金屬離子含量<1ppb,顆粒(>50nm)<1個/mL,需優化提純工藝(如多級過濾+真空蒸餾)。 國產化突破: ? 國內企業(如上海新陽、南大光電、容大感光)已在KrF/ArF膠實現批量供貨,但EUV膠仍被日本JSR、美國陶氏、德國默克壟斷,需突破樹脂合成、PAG純度等瓶頸。 ...

    2025-06-18
  • 上海水性光刻膠
    上海水性光刻膠

    “設備-材料-工藝”閉環驗證 吉田半導體與中芯國際、華虹半導體等晶圓廠建立了聯合研發機制,針對28nm及以上成熟制程開發專門使用光刻膠,例如其KrF光刻膠已通過中芯國際北京廠的產線驗證,良率達95%以上。此外,公司參與國家重大專項(如02專項),與中科院微電子所合作開發EUV光刻膠基礎材料,雖未實現量產,但在酸擴散控制和靈敏度優化方面取得階段性突破。 政策支持與成本優勢 作為廣東省專精特新企業,吉田半導體享受稅收優惠(如15%企業所得稅)和研發補貼(2023年獲得國家補助超2000萬元),比較明顯降低產品研發成本。同時,其本地化生產(東莞松山湖基地)可將物...

    2025-06-18
  • 內蒙古網版光刻膠報價
    內蒙古網版光刻膠報價

    行業地位與競爭格局 1. 國際對比 ? 技術定位:聚焦細分市場(如納米壓印、LCD),而國際巨頭(如JSR、東京應化)主導半導體光刻膠(ArF、EUV)。 ? 成本優勢:原材料自主化率超80%,成本低20%;國際巨頭依賴進口原材料,成本較高。 ? 客戶響應:48小時內提供定制化解決方案,認證周期為國際巨頭的1/5。 2. 國內競爭 國內光刻膠市場仍由日本企業壟斷(全球市占率超60%),但吉田在納米壓印、LCD光刻膠等領域具備替代進口的潛力。與南大光電、晶瑞電材等企業相比,吉田在細分市...

    2025-06-18
  • 常州負性光刻膠感光膠
    常州負性光刻膠感光膠

    光刻膠的工作原理: 1. 涂覆與曝光:在基底(如硅片、玻璃、聚合物)表面均勻涂覆光刻膠,通過掩膜(或直接電子束掃描)對特定區域曝光。 2. 化學變化:曝光區域的光刻膠發生光化學反應(正性膠曝光后溶解,負性膠曝光后交聯不溶)。 3. 顯影與刻蝕:溶解未反應的部分,留下圖案化的膠層,作為后續刻蝕或沉積的掩模,將圖案轉移到基底上。 在納米技術中,關鍵挑戰是突破光的衍射極限(λ/2),因此需依賴高能束曝光技術(如電子束光刻、極紫外EUV光刻)和高性能光刻膠(高分辨率、低缺陷)。 LCD 光刻膠供應商哪家好?吉田半導體高分辨率...

    2025-06-18
  • 深圳LCD光刻膠廠家
    深圳LCD光刻膠廠家

    對比國際巨頭的差異化競爭力 維度 吉田光刻膠 國際巨頭(如JSR、東京應化) 技術定位 聚焦細分市場(如納米壓印、LCD) 主導高級半導體光刻膠(ArF、EUV) 成本優勢 原材料自主化率超80%,成本低20% 依賴進口原材料,成本高 客戶響應 48小時內提供定制化解決方案 認證周期長(2-3年) 區域市場 東南亞、北美市占率超15% 全球市占率超60% 風險與挑戰 前段技術瓶頸:ArF、EUV光刻膠仍依賴進口,研發投入不足國際巨頭的1/10。 客戶認證周期:半導體光刻膠需2-...

    2025-06-18
  • 天津油性光刻膠供應商
    天津油性光刻膠供應商

    廣東吉田半導體材料有限公司成立于 2023 年,總部位于東莞松山湖經濟技術開發區,注冊資本 2000 萬元。作為高新企業和廣東省專精特新企業,公司專注于半導體材料的研發、生產與銷售,產品線覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠、半導體錫膏、焊片及靶材等領域。其光刻膠產品以高分辨率、耐蝕刻性和環保特性著稱,廣泛應用于芯片制造、顯示面板及精密電子元件生產。 公司依托 23 年行業經驗積累,構建了完整的技術研發體系,擁有全自動化生產設備及多項技術。原材料均選用美國、德國、日本進口的材料,并通過 ISO9001:2008 質量管理體系認證,生產流程嚴格執行 8S 現場管理標準,確保...

    2025-06-18
  • 深圳阻焊光刻膠廠家
    深圳阻焊光刻膠廠家

    吉田半導體 YK-300 正性光刻膠:半導體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性,成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,適用于半導體芯片前道工藝。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出,在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩定性。產品已通過中芯國際量產驗證,良率達 98% 以上,生產過程執行 ISO9001 標準,幫助客戶降低封裝成本 20% 以上。支持小批量試產與定制化需求,為國產芯片制造提供穩定材料支撐。 光刻膠的技術挑戰現在就是需要突破難關!深圳阻焊光刻膠廠家 晶圓制造(前道工藝) ...

    2025-06-18
  • 武漢網版光刻膠品牌
    武漢網版光刻膠品牌

    吉田半導體突破 ArF 光刻膠技術壁壘,國產替代再迎新進展 自主研發 ArF 光刻膠通過中芯國際驗證,吉田半導體填補國內光刻膠空白。 吉田半導體成功研發出 AT-450 ArF 光刻膠,分辨率達 90nm,適用于 14nm 及以上制程,已通過中芯國際量產驗證。該產品采用國產原材料與自主配方,突破日本企業對 ArF 光刻膠的壟斷。其光酸產率提升 30%,蝕刻選擇比達 4:1,性能對標日本信越的 ArF 系列。吉田半導體的技術突破加速了國產芯片制造材料自主化進程,為國內晶圓廠提供高性價比解決方案。 LCD 光刻膠供應商哪家好?吉田半導體高分辨率 +低 VOC 配方!武漢網版光刻膠品牌以...

    2025-06-18
  • 甘肅3微米光刻膠報價
    甘肅3微米光刻膠報價

    LCD顯示 ? 彩色濾光片(CF): ? 黑色矩陣(BM)光刻膠:隔離像素,線寬精度±2μm,透光率<0.1%。 ? RGB色阻光刻膠:形成紅/綠/藍像素,需高色純度(NTSC≥95%)和耐光性。 ? 陣列基板(Array): ? 柵極絕緣層光刻膠:用于TFT-LCD的柵極圖案化,分辨率≤3μm。 OLED顯示(柔性/剛性) ? 像素定義層(PDL)光刻膠:在基板上形成有機發光材料的 confinement 結構,線寬精度±1μm,需耐溶劑侵蝕(適應蒸鍍工藝)。 ...

    2025-06-18
  • 黑龍江高溫光刻膠
    黑龍江高溫光刻膠

    作為中國半導體材料領域的企業,吉田半導體材料有限公司始終以自研自產為戰略,通過 23 年技術沉淀與持續創新,成功突破多項 “卡脖子” 技術,構建起從原材料到成品的全鏈條國產化能力。其自主研發的光刻膠產品已覆蓋芯片制造、顯示面板、精密電子等領域,為國內半導體產業鏈自主化提供關鍵支撐。 吉田半導體依托自主研發中心與產學研合作,在光刻膠領域實現多項技術突破: YK-300 正性光刻膠:分辨率達 0.35μm,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,適用于 45nm 及以上制程,良率達 98% 以上,成本較進口產品降低 40%,已通過中芯國際量產驗證。 SU-3 負性光刻膠:支...

    2025-06-18
  • 深圳油墨光刻膠報價
    深圳油墨光刻膠報價

    以 15% 年研發投入為驅動,吉田半導體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發,搶占行業制高點。布局下一代光刻技術。 面對極紫外光刻技術挑戰,吉田半導體與中科院合作開發化學放大型 EUV 光刻膠,在感光效率(<10mJ/cm2)和耐蝕性(>80%)指標上取得階段性進展。同時,公司前瞻性布局木基光刻膠研發,對標日本王子控股技術,探索生物基材料在半導體封裝中的應用。這些技術儲備為 7nm 及以下制程提供支撐,助力中國在下一代光刻技術中占據重要地位。負性光刻膠的工藝和應用場景。深圳油墨光刻膠報價 晶圓制造(前道工藝) ? 功能:在硅片表面形成高精度電路圖形,是光刻工藝的主要材料。 ...

    2025-06-18
  • 江蘇高溫光刻膠廠家
    江蘇高溫光刻膠廠家

    正性光刻膠(如 YK-300) 應用場景:用于芯片的精細圖案化,如集成電路(IC)、分立器件(二極管、三極管)的制造。 特點:高分辨率(可達亞微米級),適用于多層光刻工藝,確保芯片電路的高精度與可靠性。 負性光刻膠(如 JT-1000) 應用場景:用于功率半導體(如 MOSFET、IGBT)的制造,以及傳感器(如 MEMS)的微結構成型。 特點:抗蝕刻能力強,適合復雜圖形的轉移,尤其在深寬比要求較高的工藝中表現優異。 納米壓印光刻膠(JT-2000) 應用場景:第三代半導體(GaN、SiC)芯片、量子點器件及微流控芯片的制造...

    2025-06-18
  • 貴州高溫光刻膠品牌
    貴州高溫光刻膠品牌

    原料準備 ? 主要成分:樹脂(成膜劑,如酚醛樹脂、聚酰亞胺等)、感光劑(光引發劑或光敏化合物,如重氮萘醌、光刻膠單體)、溶劑(溶解成分,如丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA))、添加劑(調節粘度、感光度、穩定性等,如表面活性劑、穩定劑)。 ? 原料提純:對樹脂、感光劑等進行高純度精制(純度通常要求99.9%以上),避免雜質影響光刻精度。 配料與混合 ? 按配方比例精確稱量各組分,在潔凈環境,如萬中通過攪拌機均勻混合,形成膠狀溶液。 ? 控制溫度(通常20-30℃)和攪拌速度,避免氣泡產生或成分分...

    2025-06-17
  • 河南納米壓印光刻膠國產廠商
    河南納米壓印光刻膠國產廠商

    光刻膠的納米級性能要求 超高分辨率:需承受電子束(10keV以上)或EUV(13.5nm波長)的轟擊,避免散射導致的邊緣模糊,目前商用EUV膠分辨率已達13nm(3nm制程)。 低缺陷率:納米級結構對膠層中的顆粒或化學不均性極其敏感,需通過化學增幅型配方(如酸催化交聯)提升對比度和抗刻蝕性。 多功能性:兼容多種基底(柔性聚合物、陶瓷)和后處理工藝(干法刻蝕、原子層沉積),例如用于柔性電子的可拉伸光刻膠。 技術挑戰與前沿方向 ? EUV光刻膠優化:解決曝光后酸擴散導致的線寬波動,開發含氟聚合物或金屬有機材料以提高靈敏...

    2025-06-17
  • 廈門負性光刻膠國產廠家
    廈門負性光刻膠國產廠家

    廣東吉田半導體材料有限公司以全球化視野布局市場,通過嚴格的質量管控與完善的服務體系贏得客戶信賴。公司產品不僅通過 ISO9001 認證,更以進口原材料和精細化生產流程保障品質,例如錫膏產品采用無鹵無鉛配方,符合環保要求,適用于電子產品制造。其銷售網絡覆蓋全球,與富士康、聯想等企業保持長期合作,并在全國重點區域設立辦事處,提供本地化技術支持與售后服務。 作為廣東省創新型中小企業,吉田半導體始終將技術研發視為核心競爭力。公司投入大量資源開發新型光刻膠及焊接材料,例如 BGA 助焊膏和針筒錫膏,滿足精密電子組裝的需求。同時,依托東莞 “世界工廠” 的產業集群優勢,公司強化供應鏈協同,縮短...

    2025-06-17
  • 河北制版光刻膠
    河北制版光刻膠

    光刻膠的納米級性能要求 超高分辨率:需承受電子束(10keV以上)或EUV(13.5nm波長)的轟擊,避免散射導致的邊緣模糊,目前商用EUV膠分辨率已達13nm(3nm制程)。 低缺陷率:納米級結構對膠層中的顆粒或化學不均性極其敏感,需通過化學增幅型配方(如酸催化交聯)提升對比度和抗刻蝕性。 多功能性:兼容多種基底(柔性聚合物、陶瓷)和后處理工藝(干法刻蝕、原子層沉積),例如用于柔性電子的可拉伸光刻膠。 技術挑戰與前沿方向 ? EUV光刻膠優化:解決曝光后酸擴散導致的線寬波動,開發含氟聚合物或金屬有機材料以提高靈敏...

    2025-06-17
  • 天津3微米光刻膠國產廠商
    天津3微米光刻膠國產廠商

    廣東吉田半導體材料有限公司以光刻膠為中心,逐步拓展至半導體全材料領域,形成了 “技術驅動、全產業鏈覆蓋” 的發展格局。公司產品不僅包括芯片與 LCD 光刻膠,還延伸至錫膏、焊片、靶材等配套材料,為客戶提供一站式采購服務。 市場與榮譽: 產品遠銷全球 50 多個地區,客戶包括電子制造服務商(EMS)及半導體廠商。 獲評 “廣東省專精特新企業”“廣東省創新型中小企業”,并通過技術企業認證。 生產基地配備自動化設備,年產能超千噸,滿足大規模訂單需求。 未來展望: 公司計劃進一步擴大研發中心規模,聚焦第三代...

    2025-06-17
  • 福州PCB光刻膠工廠
    福州PCB光刻膠工廠

    技術驗證周期長 半導體光刻膠的客戶驗證周期通常為2-3年,需經歷PRS(性能測試)、STR(小試)、MSTR(批量驗證)等階段。南大光電的ArF光刻膠自2021年啟動驗證,預計2025年才能進入穩定供貨階段。 原材料依賴仍存 樹脂和光酸仍依賴進口,如KrF光刻膠樹脂的單體國產化率不足10%。國內企業需在“吸附—重結晶—過濾—干燥”耦合工藝等關鍵技術上持續突破。 未來技術路線 ? 金屬氧化物基光刻膠:氧化鋅、氧化錫等材料在EUV光刻中展現出更高分辨率和穩定性,清華大學團隊已實現5nm線寬的原型驗證。 ...

    2025-06-17
  • 云南紫外光刻膠感光膠
    云南紫外光刻膠感光膠

    光刻膠(如液晶平板顯示器光刻膠) 液晶平板顯示器制造:在液晶平板顯示器(LCD)的生產過程中,光刻膠用于制作液晶盒內的各種精細圖案,包括像素電極、公共電極、取向層圖案等。這些圖案的精度和質量直接影響液晶顯示器的顯示效果,如分辨率、對比度、視角等。 有機發光二極管顯示器(OLED)制造:OLED 顯示器的制造同樣需要光刻膠來制作電極、像素定義層等關鍵結構。OLED 顯示器具有自發光、響應速度快等優點,而光刻膠能保障其精細的像素結構制作,提升顯示器的發光效率和顯示質量 。 吉田半導體助力區域經濟發展,推動產業鏈協同創新。云南紫外光刻膠感光膠 ...

    2025-06-17
  • 福建阻焊光刻膠工廠
    福建阻焊光刻膠工廠

    上游原材料: ? 樹脂:彤程新材、鼎龍股份實現KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成,金屬雜質含量<5ppb(國際標準<10ppb)。 ? 光引發劑:久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產酸劑,累計形成噸級訂單;威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產線。 ? 溶劑:怡達股份電子級PM溶劑全球市占率超40%,與南大光電合作開發配套溶劑,技術指標達SEMI G5標準。 設備與驗證: ? 上海新陽與上海微電子聯合開發光刻機適配參數,驗證周期較國際廠商縮短6個月;徐州博康實現“單體-樹脂...

    2025-06-17
  • 青海納米壓印光刻膠報價
    青海納米壓印光刻膠報價

    國際廠商策略調整 應用材料公司獲曝光后處理,可將光刻膠工藝效率提升40%。杜邦因反壟斷調查在中國市場面臨壓力,但其新一代乾膜式感光型介電質材料(CYCLOTENE DF6000 PID)仍在推進,試圖通過差異化技術維持優勢。日本企業則通過技術授權(如東京應化填補信越產能缺口)維持市場地位。 國內產業鏈協同升級 TSMC通過租賃曝光設備幫助供應商降低成本,推動光刻膠供應鏈本地化,其中國臺灣EUV光刻膠工廠年產能達1000瓶,產值超10億新臺幣。國內企業借鑒此模式,如恒坤新材通過科創板IPO募資15億元,建設集成電路前驅體項目,形成“光刻膠-前驅體-設備”...

    2025-06-17
  • 北京光刻膠工廠
    北京光刻膠工廠

    國家大基金三期:注冊資本3440億元,明確將光刻膠列為重點投資領域,計劃投入超500億元支持樹脂、光引發劑等原料研發,相當于前兩期投入總和的3倍。 地方專項政策:湖北省對通過驗證的光刻膠企業給予設備采購補貼+稅收減免,武漢太紫微憑借全流程國產化技術獲中芯國際百萬級訂單;福建省提出2030年化工新材料自給率達90%,光刻膠是重點突破方向。 研發專項:科技部“雙十計劃”設立20億元經費,要求2025年KrF/ArF光刻膠國產化率突破10%,并啟動EUV光刻膠預研。 聚焦封裝需求,吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一站式服務。北京光刻膠工廠 市場拓展 ...

    2025-06-17
  • 黑龍江正性光刻膠
    黑龍江正性光刻膠

    吉田半導體厚板光刻膠 JT-3001:國產技術助力 PCB 行業升級 JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻,成為國產 PCB 電路板制造推薦材料。 吉田半導體自主研發的 JT-3001 厚板光刻膠,分辨率 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,適用于高密度 PCB 制造。其無鹵無鉛配方通過歐盟 RoHS 認證,已應用于華為 5G 基站主板量產。產品采用國產原材料與全自動化工藝,批次穩定性達 99.5%,幫助客戶提升生產效率 20%,加速國產 PCB 行業技術升級,推動 PCB 行業國產化進程。 廣東光刻膠廠家哪家好?黑龍江正性光刻膠 廣東吉田半導...

    2025-06-17
  • 甘肅激光光刻膠生產廠家
    甘肅激光光刻膠生產廠家

    吉田半導體 JT-3001 厚板光刻膠:歐盟 RoHS 認證,PCB 電路板制造 憑借抗深蝕刻性能與環保特性,吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業材料。 吉田半導體推出的 JT-3001 厚板光刻膠,分辨率達 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,適用于高密度電路板制造。產品通過歐盟 RoHS 認證,采用無鹵無鉛配方,符合環保要求。其優異的感光度與留膜率,確保復雜線路圖形的成型,已應用于華為 5G 基站主板量產。公司提供從材料選型到工藝優化的全流程支持,助力客戶提升生產效率與良率。 半導體材料方案選吉田,歐盟 REACH 合規,24 小時技術支持!甘肅激光...

    2025-06-17
  • 蘇州3微米光刻膠廠家
    蘇州3微米光刻膠廠家

    廣東吉田半導體材料有限公司以全球化視野布局市場,通過嚴格的質量管控與完善的服務體系贏得客戶信賴。公司產品不僅通過 ISO9001 認證,更以進口原材料和精細化生產流程保障品質,例如錫膏產品采用無鹵無鉛配方,符合環保要求,適用于電子產品制造。其銷售網絡覆蓋全球,與富士康、聯想等企業保持長期合作,并在全國重點區域設立辦事處,提供本地化技術支持與售后服務。 作為廣東省創新型中小企業,吉田半導體始終將技術研發視為核心競爭力。公司投入大量資源開發新型光刻膠及焊接材料,例如 BGA 助焊膏和針筒錫膏,滿足精密電子組裝的需求。同時,依托東莞 “世界工廠” 的產業集群優勢,公司強化供應鏈協同,縮短...

    2025-06-17
  • 上海高溫光刻膠工廠
    上海高溫光刻膠工廠

    吉田半導體突破 ArF 光刻膠技術壁壘,國產替代再迎新進展 自主研發 ArF 光刻膠通過中芯國際驗證,吉田半導體填補國內光刻膠空白。 吉田半導體成功研發出 AT-450 ArF 光刻膠,分辨率達 90nm,適用于 14nm 及以上制程,已通過中芯國際量產驗證。該產品采用國產原材料與自主配方,突破日本企業對 ArF 光刻膠的壟斷。其光酸產率提升 30%,蝕刻選擇比達 4:1,性能對標日本信越的 ArF 系列。吉田半導體的技術突破加速了國產芯片制造材料自主化進程,為國內晶圓廠提供高性價比解決方案。 松山湖光刻膠廠家吉田,2000 萬級產能,48 小時極速交付!上海高溫光刻膠工廠 公司...

    2025-06-17
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