無損熱紅外顯微鏡的非破壞性分析（NDA）技術，為失效分析提供了 “保全樣品” 的重要手段。它在不損傷高價值樣品的前提下，捕捉隱性熱信號以定位內部缺陷，既保障了分析的準確性，又為后續驗證、復盤保留了完整樣本，讓失效分析從 “找到問題” 到 “解決問題” 的閉環更高效、更可靠。

相較于無損熱紅外顯微鏡的非侵入式檢測，這些有損分析方法雖能獲取內部結構信息，但會破壞樣品完整性，更適合無需保留樣品的分析場景，與無損分析形成互補。 熱紅外顯微鏡通過分析熱輻射分布，評估芯片散熱設計的合理性 。直銷熱紅外顯微鏡批量定制

熱紅外顯微鏡與光學顯微鏡雖同屬微觀觀測工具，但在原理、功能與應用場景上存在明顯差異，尤其在失效分析等專業領域各有側重。

從工作原理看，光學顯微鏡利用可見光（400-760nm 波長）的反射或透射成像，通過放大樣品的物理形態（如結構、顏色、紋理）呈現細節，其主要是捕捉 “可見形態特征”；而熱紅外顯微鏡則聚焦 3-10μm 波長的紅外熱輻射，通過檢測樣品自身發射的熱量差異生成熱分布圖，本質是捕捉 “不可見的熱信號”。

在主要功能上，光學顯微鏡擅長觀察樣品的表面形貌、結構缺陷（如裂紋、變形），適合材料微觀結構分析、生物樣本觀察等；熱紅外顯微鏡則專注于微觀熱行為解析，能識別因電路缺陷、材料熱導差異等產生的溫度異常，即使是納米級的微小熱點（如半導體芯片的漏電區域）也能精確捕捉，這是光學顯微鏡無法實現的。

從適用場景來看，光學顯微鏡是通用型觀測工具，廣泛應用于基礎科研、教學等領域；而熱紅外顯微鏡更偏向專業細分場景，尤其在半導體失效分析中，可定位短路、虛焊等隱性缺陷引發的熱異常，在新材料研發中能分析不同組分的熱傳導特性，為解決 “熱相關問題” 提供關鍵依據。 直銷熱紅外顯微鏡批量定制熱紅外顯微鏡結合自研算法，對微弱熱信號進行定位分析，鎖定潛在缺陷 。

現市場呈現 “國產崛起與進口分野” 的競爭格局。進口品牌憑借早期技術積累，在市場仍占一定優勢，國產廠商則依托本土化優勢快速突圍，通過優化供應鏈、降低生產成本，在中低端市場形成強競爭力，尤其在工業質檢、電路板失效分析等場景中，憑借高性價比和快速響應的服務搶占份額。同時，國內企業持續加大研發投入，在探測器靈敏度、成像分辨率等指標上不斷追趕，部分中端產品可以做到超越國際水平，且在定制化解決方案上更貼合本土客戶需求，如針對大尺寸主板檢測優化的機型。隨著國產技術成熟度提升，與進口品牌的競爭邊界不斷模糊，推動整體市場向多元化、高性價比方向發展。

熱紅外顯微鏡是半導體失效分析與缺陷定位的三大主流手段之一（EMMI、THERMAL、OBIRCH），通過捕捉故障點產生的異常熱輻射，實現精細定位。存在缺陷或性能退化的器件通常表現為局部功耗異常，導致微區溫度升高。顯微熱分布測試系統結合熱點鎖定技術，能夠高效識別這些區域。熱點鎖定是一種動態紅外熱成像方法，通過調節電壓提升分辨率與靈敏度，并借助算法優化信噪比。在集成電路（IC）分析中，該技術廣泛應用于定位短路、ESD損傷、缺陷晶體管、二極管失效及閂鎖問題等關鍵故障。 熱紅外顯微鏡的動態功耗分析功能，同步記錄 100MHz 高頻信號下的熱響應曲線。

致晟光電自主研發的熱紅外顯微鏡 Thermal EMMI P系列，是電子工業中不可或缺的精密檢測工具，在半導體芯片、先進封裝技術、功率電子器件以及印刷電路板（PCB）等領域的失效分析中發揮著舉足輕重的作用。

該設備搭載——實時瞬態鎖相紅外熱分析（RTTLIT）系統，并集成高靈敏度紅外相機、多倍率可選顯微鏡鏡頭、精確高低壓源表等技術組件，賦予其三大特性：超凡靈敏度與亞微米級檢測精度，可捕捉微弱熱信號與光子發射；高精度溫度測量能力（鎖相靈敏度達0.001℃），支持動態功耗分析；無損故障定位特性，無需破壞器件即可鎖定短路、開路等缺陷。憑借技術集成優勢，ThermaEMMIP系列不僅能快速定位故障點，更能通過失效分析優化產品質量與可靠性，為半導體制造、先進封裝及電子器件研發提供關鍵技術支撐。 熱紅外顯微鏡在材料研究領域，常用于觀察材料微觀熱傳導特性。廠家熱紅外顯微鏡貨源充足

監測微流控芯片、生物傳感器的局部熱反應，研究生物分子相互作用的熱效應。直銷熱紅外顯微鏡批量定制

從傳統熱發射顯微鏡到熱紅外顯微鏡的演變，是其技術團隊對微觀熱分析需求的深度洞察與持續創新的結果。它既延續了通過紅外熱輻射解析熱行為的原理，又通過全尺度觀測、高靈敏度檢測、場景化分析等創新，突破了傳統技術的邊界。如今，這款設備已成為半導體失效分析、新材料熱特性研究、精密器件研發等領域的專業工具，為行業在微觀熱管控、缺陷排查、性能優化等方面提供了更高效的技術支撐，推動微觀熱分析從 “可見” 向 “可知”“可控” 邁進。直銷熱紅外顯微鏡批量定制