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廣東進口半絕緣碳化硅襯底

來源: 發布時間:2021-10-16

不同的SiC多型體在半導體特性方面表現出各自的特性。利用SiC的這一特點可以制作SiC不同多型體間晶格完全匹配的異質復合結構和超晶格,從而獲得性能較好的器件.其中6H-SiC結構**為穩定,適用于制造光電子器件:p-SiC比6H-SiC活潑,其電子遷移率比較高,飽和電子漂移速度**快,擊穿電場**強,較適宜于制造高溫、大功率、高頻器件,及其它薄膜材料(如A1N、GaN、金剛石等)的襯底和X射線的掩膜等。而且,β-SiC薄膜能在同屬立方晶系的Si襯底上生長,而Si襯底由于其面積大、質量高、價格低,可與Si的平面工藝相兼容,所以后續PECVD制備的SiC薄膜主要是β-SiC薄膜[2]。為了制造碳化硅半導體器件,需要在晶片表面生長1層或數層碳化硅薄膜,這些薄膜具有不同的n、p導電類型。廣東進口半絕緣碳化硅襯底

采用SiC的功率模塊將進入諸如可再生能源、UPS電源、驅動器和汽車等應用。風電和牽引應用可能會隨之而來。 到2021年,SiC功率器件市場總額預計將上升到10億美元 。在某些市場,如太陽能,SiC器件已投入運行,盡管事實上這些模塊的價格仍然比常規硅器件高。是什么使這種材料具有足夠的吸引力,即使價格更高也心甘情愿地被接受?首先,作為寬禁帶材料,SiC提供了功率半導體器件的新設計方法。傳統功率硅技術中,IGBT開關被用于高于600V的電壓,并且硅PIN-續流二極管是**技術的。硅功率器件的設計與軟開關特性造成相當大的功率損耗。有了SiC的寬禁帶,可設計阻斷電壓高達15kV的高壓MOSFET,同時動態損耗非常小。有了SiC,傳統的軟關斷硅二極管可由肖特基二極管取代,并帶來非常低的開關損耗。作為一個額外的優勢,SiC具有比硅高3倍的熱傳導率。連同低功率損耗,SiC是提高功率模塊**率密度的一種理想材料。杭州進口6寸半絕緣碳化硅襯底碳化硅半導體是新一代寬禁帶半導體。

作為一種新型的半導體材料,SiC以其優良的物理化學特性和電特性成為制造短波長光電子器件、高溫器件、抗輻照器件和大功率/高額電子器件**重要的半導體材料.特別是在極端條件和惡劣條件下應用時,SiC器件的特性遠遠超過了Si器件和GaAs器件.因此,SiC器件和各類傳感器已逐步成為關鍵器件之一,發揮著越來超重要的作用.  

從20世紀80年代起,特別是1989年第一種SiC襯底圓片進入市場以來,SiC器件和電路獲得了快速的發展.在某些領域,如發光二極管、高頻大功率和高電壓器件等,SiC器件已經得到較***的商業應用.發展迅速



       采用碳化硅作襯底的LED器件亮度更高、能耗更低、壽命更長、單位芯片面積更小,且在大功率LED方面具有非常大的優勢。此外,碳化硅除了用作LED襯底,它還可以制造高耐壓、大功率電力電子器件如肖特基二極管(SBD/JBS)、絕緣柵雙極型晶體管(IGBT)、晶閘管(GTO)、金屬-氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET)等,用于智能電網、太陽能并網、電動汽車等行業。與傳統硅基功率電力電子器件相比,碳化硅基功率器件可以**降低能耗,節約電力。比如一臺35kW的太陽能光伏并網逆變器,全部使用硅器件,能耗可達2.8kW,轉換效率為92%,全部換成碳化硅的器件后,能耗可低至1.4kW,約為硅逆變器的50%,轉換效率上升4%,為96%,一座30MW的太陽能發電站,全部使用碳化硅功率器件后可節約大量電能,節能效果十分***。碳化硅可在超過200℃的高溫下長期穩定地工作,因此,相比于硅,碳化硅方案可以大量縮減冷卻負擔,實現系統的小型化和一體化。碳化硅基電力電子器件已經應用于新一代航空母艦的電磁彈射系統,大幅度提高了艦載機起降效率,增強了航母作戰性能。 SiC作為襯底材料應用的***程度僅次于藍寶石,目前還沒有第三種襯底用于GaNLED的商業化生產。

現在,SiC材料正在大舉進入功率半導體領域。一些的半導體器件廠商,如羅姆(ROHM)株式會社、英飛凌科技公司、Cree、飛兆國際電子有限公司等都在開發自己的SiC功率器件。英飛凌科技公司在今年推出了第5代SiC肖特基勢壘二極管,它結合了第3代產品的低容性電荷(Qc)特性與第2代產品中的低正向電壓(Vf)特性,使PFC電路達到高效率水平,擊穿電壓則達到了650V。飛兆半導體發布了SiC BJT,實現了1 200V的耐壓,傳導和開關損耗相對于傳統的Si器件降低了30%~50%,從而能夠在相同尺寸的系統中實現高達40%的輸出功率提升。為了制造碳化硅半導體器件,需要在碳化硅晶片表面生長1層或數層碳化硅薄膜。杭州進口6寸半絕緣碳化硅襯底

碳化硅的硬度很大,具有優良的導熱和導電性能,高溫時能抗氧化。廣東進口半絕緣碳化硅襯底

碳化硅SiC的應用前景  由于SiC具有上述眾多優異的物理化學性質,不僅能夠作為一種良好的高溫結構材料,也是一種理想的高溫半導體材料。近20年,伴隨薄膜制備技術的高速發展,SiC薄膜已經被***應用于保護涂層、光致發光、場效應晶體管、薄膜發光二極管以及非晶Si太陽能電池的窗口材料等。另外,作為結構材料的SiC薄膜還被認為是核聚變堆中比較好的防護材料,在不銹鋼基體上沉積一層SiC薄膜,可以**地降低氚的滲透率,并保持聚變反應的穩定性。總結起來,SiC具有以下幾個方面的應用:(1)高的硬度與熱穩定性,可用于***涂層;(2)穩定的結構,在核反應技術中用作核聚變堆等離子體的面對材料:(3)大的禁帶寬度,可作為光的短波長區域發光材料。例如,3C-SiC的Eg=2.2eV,6H-SiC的Eg=2.9eV可分別用作綠色、藍色LED材料,目前SiC藍光LED已經商品化;(4)高的熱導率,可作為超大規模集成電路和特大規模集成電路的熱沉材料,**提高了電路的集成度;(5)優異的電學性能,在功率器件、微波器件、高溫器件和抗輻射器件方面也具有***的應用前景。廣東進口半絕緣碳化硅襯底

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