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半導體檢測設備:技術突破,領導產業升級新風向

來源: 發布時間:2025-07-18

超聲檢測:無損探傷,直擊封裝缺陷

芯紀源的超聲掃描顯微鏡(SAT)采用高頻超聲波技術,可穿透封裝材料對芯片內部結構進行三維成像,準確識別分層、空洞、裂紋等微米級缺陷。

相較于傳統X射線檢測,SAT具備三大中樞優勢:

1.無損檢測:避免對芯片造成二次損傷,適用于高價值樣品分析;

2.高分辨率:可檢測0.5μm級缺陷,滿足3D堆疊、HBM等先進封裝需求;

3.材料兼容性:覆蓋SiC、GaN等寬禁帶半導體材料,適配陶瓷、塑料、金屬等多種封裝基板。

在新能源汽車IGBT模塊檢測中,芯紀源SAT設備可模擬-55℃至150℃極端工況,通過熱循環測試定位熱失效閾值,助力客戶通過AEC-Q101車規級認證。

光學檢測:納米精度,賦能先進制程

針對5nm/3nm工藝節點,芯紀源推出多光譜光學檢測平臺,集成深紫外(DUV)光源與AI算法,實現:

1.關鍵尺寸(CD)在線測量:線寬測量精度達±0.5nm,覆蓋光刻、刻蝕、CMP全流程;

2.三維形貌重構:結合橢偏儀與共聚焦顯微技術,量化臺階高度、側壁角等參數;

3.電性缺陷定位:通過光電流映射(PCM)技術,關聯微觀結構與電學性能,良率提升20%以上。

在AI芯片TSV(硅通孔)檢測中,該平臺可同步測量電阻、電容及信號串擾,配合科磊KLA Nexus晶圓檢測設備,實現缺陷復檢效率提升3倍。

國產化突圍:技術攻堅,打破國際壟斷

面對海外廠商(如KLA、應用材料)的技術封鎖,芯紀源依托國家大基金三期政策支持,重點突破三大瓶頸:

  1. 多物理場耦合仿真:聯合中科院微電子所開發材料數據庫,預測不同工藝條件下的缺陷演化;

2.實時反饋控制系統:基于FPGA的硬件加速架構,將檢測周期從小時級壓縮至分鐘級;

3.智能缺陷分類(ADC):采用Transformer模型訓練百萬級缺陷樣本,識別準確率>99.5%。

目前,芯紀源STS8200系列測試機已進入中芯國際、長江存儲供應鏈,支持128通道并行測試,測試覆蓋率較國際競品提升15%,成本降低40%。

未來展望:技術融合,構建產業生態

芯紀源正布局下一代檢測技術:

1.量子傳感檢測:探索量子精密測量在磁性材料檢測中的應用;

2.數字孿生平臺:構建虛擬量測系統,預測工藝窗口漂移;

3.綠色檢測方案:開發低功耗激光誘導擊穿光譜(LIBS)技術,減少化學品消耗。

同時,公司攜手良渚新城打造半導體檢測產業集群,聯合矩子科技、精測電子等企業共建“測封一體”生態,推動AOI檢測設備國產化率從15%提升至30%。

結語

 在摩爾定律放緩的如今,半導體檢測設備已成為產業突破物理極限的關鍵。芯紀源以“技術攻堅者”的姿態,持續投入研發,致力于為客戶提供從實驗室到量產線的全流程解決方案。選擇芯紀源,即是選擇以準確檢測驅動創新,以品質保障贏得未來。

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